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用于电子-光子集成电路相关无源元件技术的厚膜氢倍半硅氧烷平面化工艺
摘要： 将电子-光子集成电路（EPICs）迁移到更高数据速率需要高效的电接口。这可以通过微波技术（如共面传输线和微带传输线）实现，但由于单片集成相关制造工艺的复杂性，这些技术在EPICs中应用难度较大。本工作作者报道了一种基于多层旋涂氢倍半硅氧烷（无需热固化）的厚低κ介质平面化新方法。在重掺杂InP衬底上实现了总厚度5和6微米介质的平面化，并用于构建共面波导传输线。该介质形貌作为制造工艺的固有环节定义，完全无需刻蚀步骤。最终展示了在10 MHz–67 GHz频段内特征阻抗介于48至56欧姆之间的共面波导。
关键词： 平面化、氢倍半硅氧烷、低介电常数薄膜、电子-光子集成电路、共面波导
更新于2025-09-16 10:30:52
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通过加热辊预干燥实现有机发光二极管槽模涂布多层条纹的平面化
摘要： 采用狭缝涂布系统可在横向（跨幅）方向上实现单层薄膜的微图案化。然而要实际应用于有机发光二极管（OLED），多层薄膜条纹的制备与平面化不可或缺。我们通过卷对卷狭缝涂布系统，使用水性聚(3,4-乙撑二氧噻吩):聚(4-苯乙烯磺酸盐)（PEDOT:PSS）和非水性聚(N-乙烯基咔唑)（PVK）涂覆多层条纹，并利用加热辊预干燥实现平面化。研究表明PEDOT:PSS条纹在40°C预干燥（加热辊）温度下即可实现平面化，更高温度下会根据湿膜厚度出现蒸发诱导的内向/外向毛细流动。采用低沸点溶剂时，涂覆于平面化PEDOT:PSS条纹之上的PVK条纹可在65°C预干燥温度下实现平面化，其阶梯覆盖率和厚度均匀性显著提升。该平面化方案同时对条纹表面形貌产生积极影响。为验证器件层面的平面化效果，我们制备了磷光OLED条纹。未平面化时发光区域收缩且出现强发光斑点，增加OLED短路概率；而经平面化处理后，OLED条纹可实现更明亮发光并保持高条纹间发光均匀性。
关键词： 平面化、狭缝涂布、有机发光二极管、加热辊、多层条纹
更新于2025-09-11 14:15:04
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[2019年IEEE光子学会议(IPC) - 美国德克萨斯州圣安东尼奥(2019.9.29-2019.10.3)] 2019年IEEE光子学会议(IPC) - 用于45Gb/s NRZ和50Gb/s PAM4的高功率长波导1300nm直接调制DFB激光器
摘要： 采用悬浮馈电电极的高速大功率直调分布反馈激光器已成功研制。通过使用5微米厚的苯并环丁烯进行平坦化处理，使连接激光器反台脊形波导的共面波导实现悬浮，从而形成低寄生电容结构。由此可制备长波导器件，在高频调制时具有低滚降特性，进而实现高输出光功率。实验制备了250微米长的波导，获得超过28毫瓦的光功率，且具有线性工作特性和26 GHz的-3dB带宽。此外，在高电流下发现高频段性能提升和近谐振峰处的衰减改善，实现了宽带平坦的频率响应。通过调制该大功率光输出，成功实现了45 Gb/s非归零码和50 Gb/s四电平脉冲幅度调制信号在35公里光纤中的传输。
关键词： 共面波导（CPW）、分布反馈（DFB）激光器、反脊波导（RRW）、平面化
更新于2025-09-11 14:15:04