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LPFpro 205 激光器??楹拖低? class=

LPFpro 205

分类: 激光器??楹拖低?/a>

厂家: 相干公司

产地: 美国

型号: LPFpro 205

更新时间: 2024-08-25T17:44:27.000Z

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High Pulse Energy Excimer Lasers

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概述

来自Coherent Inc.的LPFPRO 205是具有波长157、193、248、308、351nm、功率15W、输出功率(脉冲)15W、脉冲能量50至400mJ的激光器。LPFPro 205的更多细节可以在下面看到。

参数

  • 技术 / Technology : Excimer Laser
  • 功率 / Power : 15 W
  • 应用 / Application : PLD - Pulsed Laser Deposition, LDP - Laser Direct Patterning, LLO - Laser Lift-Off

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该产品已被2篇SCI论文引用

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  • 阐明用于太阳能水分解的BiVO?光电极的脉冲激光沉积过程
    脉冲激光沉积 太阳能水分解 化学计量比 BiVO4 光电极

    采用脉冲激光沉积(PLD)技术制备了用于太阳能水分解的光电电极BiVO4薄膜,该技术是合成具有高电子质量的致密多元金属氧化物薄膜的有效方法。本研究系统阐述了通过烧蚀BiVO4靶材制备BiVO4薄膜的PLD过程,重点分析了靶材与基底间材料转移偏离理想化学计量比的情况。通过关联薄膜的V:Bi比例与其载流子传输特性及光电化学性能,在无需刻意掺杂或表面改性的情况下,实现了化学计量比薄膜在E=1.23 V(vs. RHE)时达到约2.4 mA cm-2的AM1.5亚硫酸盐氧化光电流。此外,我们首次通过交替烧蚀Bi2O3和V2O5靶材制备了BiVO4光电电极,该方法被证实是控制阳离子化学计量比的可行替代方案,所制BiVO4薄膜在E=1.23 V(vs. RHE)时AM1.5亚硫酸盐氧化光电流高达2.6 mA cm-2。本研究为三元氧化物半导体的PLD过程提供了重要见解,并有助于加速新型多元金属氧化物光电电极的合成与研究。

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  • 利用248纳米KrF准分子激光背面激光诱导等离子体烧蚀技术在熔融石英中制备微通道
    准分子激光 等离子体 熔融石英玻璃 激光烧蚀 微结构

    采用248纳米KrF准分子激光的激光诱导等离子体烧蚀(LIPA)技术被用于微通道制备研究。重点考察了烧蚀形貌与加工性能的关联性,并基于实验结果提出了综合性的LIPA机理模型。采用底部金属靶材的背面LIPA工艺可归因于两种现象的共同作用:来自下方金属靶材的激光诱导等离子体气化热烧蚀,以及等离子体残留物增强的激光-玻璃直接相互作用。通过吸收光谱测量明确验证了金属残留物对石英基底激光吸收的增强效应。研究还分析了激光参数对LIPA刻蚀质量的影响以优化加工工艺。最终制备出具有优异表面质量和尺寸均匀性的熔融石英玻璃微通道,其通道深度为28微米,底面粗糙度优于数百纳米。

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实验方案推荐
AI分析生成
  • 光电信息材料与器件实验方案

    1. 实验设计与方法选择:采用定制脉冲激光沉积系统(配备248 nm KrF准分子激光器)制备BiVO4薄膜。实施两种方案:(i) 单相BiVO4靶材烧蚀;(ii) 商用Bi2O3与V2O5靶材交替烧蚀。BiVO4靶材通过混合Bi2O3与V2O5粉末、球磨、压片及烧结制得。 2. 样品选择与数据来源:薄膜沉积于掺氟氧化锡(FTO)玻璃、玻碳及石英玻璃基底。 3. 实验设备与材料清单:定制PLD系统、KrF准分子激光器、Bi2O3与V2O5靶材、FTO基底、石英晶体微天平(QCM)、卢瑟福背散射谱(RBS)、能量色散X射线光谱(EDX)、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、时间分辨微波电导(TRMC)测试、光电化学池。 4. 实验流程与操作步骤:靶材预烧蚀至沉积速率稳定后进行沉积,基底经清洁并偏轴放置,通过激光脉冲总数调控薄膜厚度。 5. 数据分析方法:采用SIMNRA软件解析RBS谱图,布鲁克D8衍射仪记录XRD图谱,TRMC测试用于探究电荷传输特性。

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  • 机械工程实验方案

    1. 实验设计与方法选择:本研究采用自制准分子激光制造系统,配合商用KrF准分子激光器进行LIPA实验。通过10×紫外物镜将激光束聚焦于玻璃样品,并利用三维位移台调节样品位置。 2. 样品选择与数据来源:使用1毫米厚紫外透光石英玻璃和304型不锈钢板。在烧蚀前测量了石英玻璃的透射光谱。 3. 实验设备与材料清单:包括KrF准分子LPXpro305激光器、He-Ne激光指示光、自制掩模、紫外反射镜、10×紫外物镜、三维位移台及表面轮廓仪。 4. 实验流程与操作步骤:将激光束经掩模校准后聚焦于玻璃样品,通过调节样品位置控制微通道尺寸与烧蚀图案。烧蚀后测量蚀刻深度与表面粗糙度。 5. 数据分析方法:测量并分析烧蚀深度与表面粗糙度数据,以理解LIPA作用机制并优化加工参数。

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厂家介绍

Coherent,Inc.是领先的激光和激光技术供应商之一,为科学、商业和工业客户在较苛刻的市场中竞争。我们的激光应用和工具提供先进的解决方案,将您的业务平台提升到新的水平。

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图片 名称 分类 制造商 参数 描述
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    UC160-190是一款超紧凑型、安静运行且精确可靠的热电技术循环冷却器,提供160W至190W的制冷能力,适用于精确温度控制。

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  • T257P-20 Thermoelectric Chiller 激光器模块和系统 T257 P-20热电制冷机 ThermoTek, Inc.

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    T257P-20热电循环冷却器是一款高性能固态冷却器,提供210瓦冷却能力和可变驱动离心泵,适用于科学行业的精密冷却需求。

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