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PL2210B 激光器?？楹拖低? class=

PL2210B

分类： 厂家： EKSPLA

产地： 立陶宛

型号： PL2210B

更新时间： 2024-08-26T17:38:12.000Z

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概述

来自EKSPLA的PL2210B是波长为1064nm、脉冲能量为0.5至2.5mJ的激光器。有关PL2210B的更多详细信息，请联系我们。

参数

  • 技术 / Technology : DPSS Laser, Mode-Locked Laser, Solid State Laser
  • 应用 / Application : Pump-probe spectroscopy, Pumping, Remote Laser Sensing
  • 增益介质类型 / Gain Medium Type : Solid State (Crystal / Glass)
  • 激光增益介质 / Laser Gain Medium : Nd:YAG Laser
  • 横模 / Transverse Mode : TEM00

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  • 通过离子注入嵌入CuZn合金纳米颗粒的LiNbO3晶体非线性光学性能增强
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    采用有机半导体低聚物BP3T的各向异性单晶构建了分布式反?。―FB）型有机激光器件。通过正性光刻胶的干涉曝光技术在晶体表面形成DFB结构。该DFB结构需同时满足相位匹配条件和波导条件。在此条件下，可精确预测BP3T晶体的有效折射率，且其数值随晶体厚度变化。最终该器件在目标波长（通常约569纳米）处实现了单模激光振荡。本研究为基于各向异性有机半导体晶体的实用化激光器件设计提供了可行方案。

    查看全文 >
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    1. 实验设计与方法选择：本研究采用离子注入技术在LiNbO3晶体中合成Cu、Zn及CuZn合金纳米颗粒，旨在利用局域表面等离子体共振效应增强非线性光学特性。理论模型包括用于离子射程模拟的SRIM 2013软件，以及用于光学特性分析的Mie/Maxwell-Garnett理论。 2. 样品选择与数据来源：使用0.5毫米厚的光学级Z切LiNbO3单晶晶片。通过单次或依次注入特定能量和注量的Cu、Zn离子制备样品。 3. 实验设备与材料清单：设备包含金属蒸汽真空弧(MEVVA)注入机（离子注入）、UV-3600双光束分光光度计（吸收光谱）、Tecnai G2 F20 S-Twin显微镜（TEM、HAADF、EDXS和SAED测量），以及配备EKSPLA PL2210A激光器的Z扫描装置（非线性光学特性）。材料为LiNbO3晶体、Cu和Zn离子。 4. 实验流程与操作步骤：Cu离子以100 keV、Zn离子以70 keV能量注入，注量均为5×10^16 cm^-2。样品在氮气环境中100-400°C退火。通过退火前后的光学吸收、TEM和Z扫描测量分析结构与光学变化。 5. 数据分析方法：采用SRIM模拟离子分布，Z扫描曲线理论拟合（论文提供方程式），以及TEM和光谱学的标准技术测定纳米颗粒尺寸、成分及光学特性。

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  • 光电信息科学与工程实验方案

    1. 实验设计与方法选择：本研究采用各向异性BP3T单晶构建DFB激光器件，通过干涉曝光技术制备衍射光栅。设计原理基于确定有效折射率与发射波长的函数关系。 2. 样品选择与数据来源：BP3T单晶通过气相生长获得，并根据尺寸和厚度筛选用于器件制备。 3. 实验设备与材料清单：使用正性光刻胶（Micro Resist Technology ma-P 1205）、脉冲Nd:YAG激光器（EKSPLA PL2210A）和原子力显微镜（Pacific Nanotechnology Nano-R?）。 4. 实验流程与操作步骤：采用干涉曝光技术在BP3T晶体上制备DFB结构，通过光学激发测量观察激光振荡。 5. 数据分析方法：分析发射光谱以确定有效折射率和激光特性。

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厂家介绍

EKSPLA是激光、激光系统和激光组件的制造商，用于研发和工业应用。自成立以来，该公司一直致力于生产高性能的先进解决方案。新的想法，其工程师和物理学家的广博知识，加上熟练和经验丰富的工作人员，使创建一个独特的公司成为可能。EKSPLA是立陶宛光子学集群和波罗的海光子学集群成员。与学术和行业合作伙伴密切合作，为欧盟和国际项目做出贡献。从皮秒钕玻璃激光器和小系列机械支架开始，Ekspla显著增加了其生产范围，现在为客户提供：用于研发应用的固态激光器、激光系统和配件光参量振荡器/发生器完整的光谱系统激光电源和冷却装置激光电子工业DPSS激光器定制设计的激光系统

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