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PL2251 激光器?？楹拖低? class=

PL2251

分类： 厂家： EKSPLA

产地： 立陶宛

型号： PL2251

更新时间： 2024-08-26T23:34:58.000Z

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概述

来自EKSPLA的PL2251是波长为1064nm、脉冲能量为1.5至30mJ的激光器。有关PL2251的更多详细信息，请联系我们。

参数

  • 技术 / Technology : DPSS Laser, Mode-Locked Laser, Solid State Laser
  • 应用 / Application : spectroscopy, Pumping, Remote Laser Sensing
  • 增益介质类型 / Gain Medium Type : Solid State (Crystal / Glass)
  • 激光增益介质 / Laser Gain Medium : Nd:YAG Laser

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  • 具有可调非线性光学吸收和折射的石墨烯纳米片表面含氧缺陷

    石墨烯纳米片(GNSs)表面含氧缺陷对光电器件中的非线性光学(NLO)特性具有重要影响。通过化学还原法成功调控了具有不同表面含氧缺陷的GNSs，并采用多种形貌结构表征和光谱测试手段进行了分析。利用30皮秒单脉冲激光源(532 nm波长)，通过Z扫描技术和NLO透射法测量其非线性光学性能。随着表面含氧基团密度降低，NLO敏感性提升11.8倍(从0.38×10?12 esu增至4.5×10?12 esu)；而氧含量进一步减少时则下降7.2倍(至2.7×10?12 esu)。相应地，石墨烯的非线性吸收系数从0.51 cm GW?1增至5.90 cm GW?1后降至3.41 cm GW?1，表明无论表面含氧基团组分过高或过低都会削弱GNSs的NLO响应。表面含氧基团与孤立sp2团簇产生的局域场效应是NLO性能提升的主导机制，而小尺寸sp2团簇的连接会抑制光学非线性。研究发现随着表面氧浓度降低会出现从双光子吸收到可饱和吸收的转变过程，并探讨了纳米片中与强度相关的NLO吸收和折射现象。调控石墨烯表面含氧缺陷是增强光学非线性以实现器件潜在应用的有效途径。

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  • 皮秒激光诱导击穿光谱对文德尔施泰因7-X偏滤器挡板螺钉上元素深度的定量分析
    等离子体与壁相互作用 激光诱导击穿光谱 燃料滞留 沉积层

    对面向等离子体部件（PFCs）中元素分布的分析，对于研究全三维几何构型运行的文德尔施泰因7-X（W7-X）仿星器中的材料侵蚀、沉积和燃料滞留至关重要。本工作报道了应用皮秒激光诱导击穿光谱（ps-LIBS）结合激光诱导烧蚀四极质谱（LIA-QMS）定量研究W7-X偏滤器挡板螺钉PFCs上元素深度分布和燃料滞留的结果。通过LIBS结合LIA-QMS，获得了具有特定多层结构的螺钉上H、C、Ti和Mo强度的深度剖面。采用线性相关方法确定了C层和Ti层之间的界面，并表明在6.5 J/cm2的激光能量密度下，通过激光烧蚀速率（82.9 ± 0.9）nm/次可实现C层厚度的测量。此外，暴露于仿星器放电等离子体的螺钉表面上的定量H滞留含量约为1.1 × 1021 原子/m2，高于未暴露于等离子体的新螺钉表面上的约3.5 × 102? 原子/m2。这些研究很好地证明了通过LIBS深度分析确定W7-X中暴露的PFCs上元素分辨层厚度和H滞留测量的能力。

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实验方案推荐
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    1. 实验设计与方法选择：本研究采用化学还原法调控石墨烯纳米片（GNSs）表面含氧缺陷。通过30皮秒单脉冲激光（波长532 nm）的Z扫描技术和非线性光学（NLO）透射法测量非线性光学特性，以克服热散射并揭示本征光学非线性。 2. 样品选择与数据来源：氧化石墨烯（GO）纳米片由天然石墨粉经改进Hummers法制备。通过不同水合肼用量（5 ml至35 ml）的水热还原获得不同氧含量的GNSs，标记为样品S0至S6。 3. 实验设备与材料清单：设备包括FTIR VERTEX 70v光谱仪（布鲁克光学公司）、珀金埃尔默Lambda 35紫外-可见光谱仪、珀金埃尔默LS55光致发光光谱仪、DX-2500 X射线衍射仪、日本电子JEM-2100透射电镜、雷尼绍RM-1000激光拉曼显微镜，以及用于Z扫描测量的锁模Nd:YAG激光器（EKSPLA，PL2251）。材料包括水合肼、水、作为标准的二硫化碳及石英比色皿。 4. 实验流程与操作步骤：GO在160°C下经不同体积水合肼水热还原。样品通过FTIR、紫外-可见、光致发光、XRD、TEM、拉曼光谱和XPS表征。NLO特性通过聚焦激光束的Z扫描和透射法测量。 5. 数据分析方法：采用非线性光学吸收和折射的理论模型分析数据，包括吸收系数和极化率公式，并拟合Z扫描曲线。统计分析通过实验数据计算NLO参数。

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  • 精密仪器实验方案

    1. 实验设计与方法选择：本研究采用脉冲激光诱导击穿光谱（ps-LIBS）结合激光电离飞行时间质谱（LIA-QMS），分析W7-X偏滤器挡板螺钉上的元素深度分布及燃料滞留情况。 2. 样本选择与数据来源：选取TZM基体上具有特定多层结构的螺钉，其顶面涂覆不同厚度的非晶碳?；げ恪? 3. 实验设备与材料清单：使用波长355 nm（三倍频）的调Q激光器（PL2241，EKSPLA），脉宽tp=35 ps。通过25 mJ/脉冲的激光能量及直径0.7 mm的光斑，实现6.5 J/cm2的激光能量密度。 4. 实验流程与操作步骤：对每个螺钉表面同一位置进行连续激光轰击并记录LIBS光谱，以获取深度剖析数据；同步采用LIA-QMS方法量化氢滞留量。 5. 数据分析方法：运用线性相关分析法建立LIBS深度分布曲线并区分不同材料层。

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厂家介绍

EKSPLA是激光、激光系统和激光组件的制造商，用于研发和工业应用。自成立以来，该公司一直致力于生产高性能的先进解决方案。新的想法，其工程师和物理学家的广博知识，加上熟练和经验丰富的工作人员，使创建一个独特的公司成为可能。EKSPLA是立陶宛光子学集群和波罗的海光子学集群成员。与学术和行业合作伙伴密切合作，为欧盟和国际项目做出贡献。从皮秒钕玻璃激光器和小系列机械支架开始，Ekspla显著增加了其生产范围，现在为客户提供：用于研发应用的固态激光器、激光系统和配件光参量振荡器/发生器完整的光谱系统激光电源和冷却装置激光电子工业DPSS激光器定制设计的激光系统

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