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PL2251A 激光器模块和系统

PL2251A

分类： 厂家： EKSPLA

产地： 立陶宛

型号： PL2251A

更新时间： 2024-08-26T19:18:28.000Z

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概述

EKSPLA的PL2251A是一种波长为1064 nm、脉冲能量为3至50 MJ的激光器。有关PL2251A的更多详细信息，请联系我们。

参数

  • 技术 / Technology : DPSS Laser, Mode-Locked Laser, Solid State Laser
  • 应用 / Application : spectroscopy, Pumping, Remote Laser Sensing
  • 增益介质类型 / Gain Medium Type : Solid State (Crystal / Glass)
  • 激光增益介质 / Laser Gain Medium : Nd:YAG Laser

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  • 具有可调非线性光学吸收和折射的石墨烯纳米片表面含氧缺陷

    石墨烯纳米片(GNSs)表面含氧缺陷对光电器件中的非线性光学(NLO)特性具有重要影响。通过化学还原法成功调控了具有不同表面含氧缺陷的GNSs，并采用多种形貌结构表征和光谱测试手段进行了分析。利用30皮秒单脉冲激光源(532 nm波长)，通过Z扫描技术和NLO透射法测量其非线性光学性能。随着表面含氧基团密度降低，NLO敏感性提升11.8倍(从0.38×10?12 esu增至4.5×10?12 esu)；而氧含量进一步减少时则下降7.2倍(至2.7×10?12 esu)。相应地，石墨烯的非线性吸收系数从0.51 cm GW?1增至5.90 cm GW?1后降至3.41 cm GW?1，表明无论表面含氧基团组分过高或过低都会削弱GNSs的NLO响应。表面含氧基团与孤立sp2团簇产生的局域场效应是NLO性能提升的主导机制，而小尺寸sp2团簇的连接会抑制光学非线性。研究发现随着表面氧浓度降低会出现从双光子吸收到可饱和吸收的转变过程，并探讨了纳米片中与强度相关的NLO吸收和折射现象。调控石墨烯表面含氧缺陷是增强光学非线性以实现器件潜在应用的有效途径。

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  • 通过离子注入嵌入CuZn合金纳米颗粒的LiNbO3晶体非线性光学性能增强
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  • 各向异性有机晶体上分布式反馈结构产生的目标波长激光振荡
    有机激光器 单模激光振荡 各向异性有机晶体 BP3T 分布反馈

    采用有机半导体低聚物BP3T的各向异性单晶构建了分布式反馈（DFB）型有机激光器件。通过正性光刻胶的干涉曝光技术在晶体表面形成DFB结构。该DFB结构需同时满足相位匹配条件和波导条件。在此条件下，可精确预测BP3T晶体的有效折射率，且其数值随晶体厚度变化。最终该器件在目标波长（通常约569纳米）处实现了单模激光振荡。本研究为基于各向异性有机半导体晶体的实用化激光器件设计提供了可行方案。

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实验方案推荐
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    1. 实验设计与方法选择：本研究采用化学还原法调控石墨烯纳米片（GNSs）表面含氧缺陷。通过30皮秒单脉冲激光（波长532 nm）的Z扫描技术和非线性光学（NLO）透射法测量非线性光学特性，以克服热散射并揭示本征光学非线性。 2. 样品选择与数据来源：氧化石墨烯（GO）纳米片由天然石墨粉经改进Hummers法制备。通过不同水合肼用量（5 ml至35 ml）的水热还原获得不同氧含量的GNSs，标记为样品S0至S6。 3. 实验设备与材料清单：设备包括FTIR VERTEX 70v光谱仪（布鲁克光学公司）、珀金埃尔默Lambda 35紫外-可见光谱仪、珀金埃尔默LS55光致发光光谱仪、DX-2500 X射线衍射仪、日本电子JEM-2100透射电镜、雷尼绍RM-1000激光拉曼显微镜，以及用于Z扫描测量的锁模Nd:YAG激光器（EKSPLA，PL2251）。材料包括水合肼、水、作为标准的二硫化碳及石英比色皿。 4. 实验流程与操作步骤：GO在160°C下经不同体积水合肼水热还原。样品通过FTIR、紫外-可见、光致发光、XRD、TEM、拉曼光谱和XPS表征。NLO特性通过聚焦激光束的Z扫描和透射法测量。 5. 数据分析方法：采用非线性光学吸收和折射的理论模型分析数据，包括吸收系数和极化率公式，并拟合Z扫描曲线。统计分析通过实验数据计算NLO参数。

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  • 光电信息材料与器件实验方案

    1. 实验设计与方法选择：本研究采用离子注入技术在LiNbO3晶体中合成Cu、Zn及CuZn合金纳米颗粒，旨在利用局域表面等离子体共振效应增强非线性光学特性。理论模型包括用于离子射程模拟的SRIM 2013软件，以及用于光学特性分析的Mie/Maxwell-Garnett理论。 2. 样品选择与数据来源：使用0.5毫米厚的光学级Z切LiNbO3单晶晶片。通过单次或依次注入特定能量和注量的Cu、Zn离子制备样品。 3. 实验设备与材料清单：设备包含金属蒸汽真空弧(MEVVA)注入机（离子注入）、UV-3600双光束分光光度计（吸收光谱）、Tecnai G2 F20 S-Twin显微镜（TEM、HAADF、EDXS和SAED测量），以及配备EKSPLA PL2210A激光器的Z扫描装置（非线性光学特性）。材料为LiNbO3晶体、Cu和Zn离子。 4. 实验流程与操作步骤：Cu离子以100 keV、Zn离子以70 keV能量注入，注量均为5×10^16 cm^-2。样品在氮气环境中100-400°C退火。通过退火前后的光学吸收、TEM和Z扫描测量分析结构与光学变化。 5. 数据分析方法：采用SRIM模拟离子分布，Z扫描曲线理论拟合（论文提供方程式），以及TEM和光谱学的标准技术测定纳米颗粒尺寸、成分及光学特性。

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  • 光电信息科学与工程实验方案

    1. 实验设计与方法选择：本研究采用各向异性BP3T单晶构建DFB激光器件，通过干涉曝光技术制备衍射光栅。设计原理基于确定有效折射率与发射波长的函数关系。 2. 样品选择与数据来源：BP3T单晶通过气相生长获得，并根据尺寸和厚度筛选用于器件制备。 3. 实验设备与材料清单：使用正性光刻胶（Micro Resist Technology ma-P 1205）、脉冲Nd:YAG激光器（EKSPLA PL2210A）和原子力显微镜（Pacific Nanotechnology Nano-R?）。 4. 实验流程与操作步骤：采用干涉曝光技术在BP3T晶体上制备DFB结构，通过光学激发测量观察激光振荡。 5. 数据分析方法：分析发射光谱以确定有效折射率和激光特性。

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厂家介绍

EKSPLA是激光、激光系统和激光组件的制造商，用于研发和工业应用。自成立以来，该公司一直致力于生产高性能的先进解决方案。新的想法，其工程师和物理学家的广博知识，加上熟练和经验丰富的工作人员，使创建一个独特的公司成为可能。EKSPLA是立陶宛光子学集群和波罗的海光子学集群成员。与学术和行业合作伙伴密切合作，为欧盟和国际项目做出贡献。从皮秒钕玻璃激光器和小系列机械支架开始，Ekspla显著增加了其生产范围，现在为客户提供：用于研发应用的固态激光器、激光系统和配件光参量振荡器/发生器完整的光谱系统激光电源和冷却装置激光电子工业DPSS激光器定制设计的激光系统

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