研究目的
在808 nm激光二极管激发下,通过Nd3?敏化研究Nd,Ho:LaF?晶体中Ho3?的高效2.87 μm发射。
研究成果
Nd,Ho:LaF3晶体具有显著的发射截面和量子效率,使其成为808 nm激光二极管激发下2.87 μm激光应用的理想增益介质。Nd3+离子能有效敏化Ho3+离子并使Ho3+:5I7能级退激。
研究不足
该研究仅限于在特定条件(808 nm激光二极管激发)下对Nd,Ho:LaF3晶体进行分析,未探索其他潜在的激发波长或共掺杂离子。
1:实验设计与方法选择:
本研究采用布里奇曼法生长Nd,Ho:LaF3和Ho:LaF3晶体,并运用Judd-Ofelt理论分析其光谱特性。
2:样品选择与数据来源:
通过ICP-AES测定Nd3+和Ho3+离子浓度。
3:实验设备与材料清单:
分别使用Lambda 1050紫外/可见/近红外分光光度计和爱丁堡仪器FLS920测量吸收光谱与荧光光谱。
4:实验流程与操作步骤:
生长晶体后,在808 nm激发下测量其吸收与荧光光谱,并测定荧光衰减曲线。
5:数据分析方法:
采用Judd-Ofelt理论计算光谱参数,通过Fuchtbauer-Ladenburg方程计算发射截面。
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Edinburgh Instruments FLS920
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