研究目的
研究一种基于纳米光子学的新方法,利用像素化介电超表面检测中红外光谱范围内的分子指纹。
研究成果
像素化超表面方法为检测分子指纹提供了一种新途径,无需笨重的光谱设备,且与CMOS技术兼容,可实现低成本晶圆级制造。该方法为进一步利用机器学习图像识别方法进行分析提供了独特可能,为开发多功能、高灵敏度的芯片集成中红外光谱设备铺平了道路。
研究不足
该研究目前正在探讨将角度作为额外参数纳入,并采用其他多种低损耗电介质材料以扩展工作光谱范围。
研究目的
研究一种基于纳米光子学的新方法,利用像素化介电超表面检测中红外光谱范围内的分子指纹。
研究成果
像素化超表面方法为检测分子指纹提供了一种新途径,无需笨重的光谱设备,且与CMOS技术兼容,可实现低成本晶圆级制造。该方法为进一步利用机器学习图像识别方法进行分析提供了独特可能,为开发多功能、高灵敏度的芯片集成中红外光谱设备铺平了道路。
研究不足
该研究目前正在探讨将角度作为额外参数纳入,并采用其他多种低损耗电介质材料以扩展工作光谱范围。
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