研究目的
为了展示一种在含有掺杂剂的液体中利用脉冲激光烧蚀合成掺杂纳米粒子的新方法,具体评估铕离子在单斜晶系Gd2O3纳米粒子中的掺杂效率。
研究成果
在含有掺杂剂的液体中进行脉冲激光烧蚀是一种合成掺杂纳米粒子的有效方法,其掺杂浓度与溶液中掺杂离子的初始浓度成正比。该方法为纳米材料合成开辟了新途径,但也凸显了控制杂质渗透的必要性。
研究不足
该研究仅限于使用特定浓度范围的EuCl3对Gd2O3纳米颗粒进行铕离子掺杂。掺杂机制及杂质非预期渗透的可能性尚未完全明确。
1:实验设计与方法选择:
在不同浓度EuCl3水溶液中脉冲激光烧蚀未掺杂Gd2O3靶材
2:样品选择与数据来源:
采用压制退火制备的氧化钆(III)粉末靶材,以及溶解于去离子水的六水合氯化铕(III)
3:实验设备与材料清单:
基于MOPA的激光源、透射电镜(TEM)、X射线衍射仪(XRD)、发光光谱装置、激光诱导击穿光谱(LIBS)装置
4:实验流程与操作步骤:
在EuCl3溶液中烧蚀靶材,收集并清洗纳米颗粒,通过TEM、XRD、发光光谱及LIBS进行表征
5:数据分析方法:
通过发光光谱、XRD图谱、TEM图像及LIBS数据分析掺杂效率与纳米颗粒特性
独家科研数据包,助您复现前沿成果,加速创新突破
获取完整内容-
TEM
JEOL 2100 HT
JEOL
Used for high-resolution imaging and diffraction analysis of nanoparticles.
-
XRD
Bruker D8 Advance
Bruker
Used for crystallographic phase analysis of nanoparticles.
-
MOPA-based laser source
Fibercryst
Used for pulsed laser ablation of the target material.
-
Luminescence spectroscopy setup
Thorlabs, Jobin Yvon
Used for luminescence characterization of doped nanoparticles.
-
LIBS setup
Andor Technology
Used for elemental analysis of doped nanoparticles.
-
登录查看剩余3件设备及参数对照表
查看全部