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采用x扫描技术表征单个等离子体纳米结构的非线性吸收与散射

DOI:10.3762/bjnano.10.211 期刊:Beilstein Journal of Nanotechnology 出版年份:2019 更新时间:2025-09-16 10:30:52
摘要: 非线性纳米等离子体学是一个尚未充分探索的研究领域,为纳米激光器、纳米天线和纳米调制器等众多激动人心的应用铺平了道路。在该领域中,表征单个纳米结构光学吸收与散射的非线性特性极具价值。目前量化光学非线性的常用方法是z扫描技术——通过移动薄样品配合激光束来获取介电常数的实部和虚部。但z扫描通常适用于薄膜材料,因此只能获得纳米结构集合体的非线性响应,而非单个结构。本研究提出基于共聚焦激光扫描显微镜(配备前向与后向探测器)的x扫描技术。这种双通道检测能同步量化单个纳米结构的散射、吸收及总衰减非线性行为。低激发强度下,散射与吸收响应均呈线性,证实了检测系统的线性特征;高激发强度时发现非线性响应可直接从x扫描图像的点扩散函数推导得出。该研究首次同步揭示了散射与吸收均存在异常巨大的非线性效应,不仅为表征单个纳米结构非线性提供了新方法,更报道了令人惊讶的巨大等离子体非线性现象。
作者: Tushar C. Jagadale,Dhanya S. Murali,Shi-Wei Chu
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利用X扫描技术表征单个纳米结构光学吸收与散射的非线性特性。

X扫描技术成功实现了对单个等离子体纳米结构中非线性衰减、吸收和散射的同步测量。该方法为表征和可视化单个纳米结构点扩散函数的非线性响应提供了新途径,揭示出惊人的强等离子体非线性效应。

X扫描技术要求纳米结构的直径远小于激光焦点的点扩散函数。当激发强度超过5×10^6 W·cm?2时,由于颗??赡芊⑸刍蛩鹕?,该方法将不可逆。

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