研究目的
研究一种在常温常压下直接激光书写薄层过渡金属二硫化物（具体为MoS2和WS2）的简易工艺。
研究成果
该研究展示了一种简单、经济高效的激光直写方法，可在常温常压下直接制备薄层过渡金属二硫化物（特别是MoS2和WS2）。该方法能实现设计层数的图案化制备，并适用于其他TMDC材料。未来工作将聚焦于工艺优化及形成机理研究。
研究不足
激光辐照的MoS2晶体质量不如剥离样品，拉曼光谱特征更宽表明了这一点。该过程的机制（无论是热致还是光致）尚未完全明确。
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环境气氛激光诱导二硫化钼纳米颗粒局部熟化
DOI：10.1039/c9tc04613e
期刊：Journal of Materials Chemistry C
出版年份：2019
更新时间：2025-09-16 10:30:52
摘要：
近年来，过渡金属二硫化物（TMDC）超薄层材料引起了广泛关注。其独特的功能特性可应用于电子学、自旋电子学、光电子学、光子学、能源生产、采集与存储等领域?？⒌统杀?、绿色高效的生长工艺至关重要，目前学界已投入大量精力研究各类制备方法。本文报道了一种基于激光的简易工艺，可直接书写制备TMDC薄膜。具体而言，通过激光直接辐照旋涂法制备的MoS2前驱体，我们获得了由横向尺寸约50纳米、厚度低至双层结构的片状MoS2纳米颗粒组成的三维阵列。采用原子力显微镜和拉曼光谱进行表征，证实这些片状结构仅形成于激光光斑中心区域，表明光斑外区域确为未处理的前驱体。通过调控前驱体沉积工艺，我们成功制备出具有预设层数的MoS2图案。该方法具有高度普适性，实验证明同样适用于其他TMDC材料的可控生长（如成功制备WS2薄膜即为例证）。
作者：
Andrea Marzo，Amal Eleonora Mahajneh，Simone Mattavelli，Elisa Vitiello，Emiliano Bonera，Massimiliano D’Arienzo，Fabio Pezzoli，Marco Fanciulli
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