研究目的
研究和分析用于光纤与硅基波导之间耦合的光栅结构及其性能，并优化光栅耦合器的制造工艺。
研究成果
光栅耦合器的耦合效率经过模拟与优化。物理参数与对准参数对耦合效率具有显著影响。通过持续优化制造工艺以降低加工公差，这对垂直光栅耦合器的进一步研究与制备具有重要意义。
研究不足
制造工艺存在不确定性，导致实测值与设计值之间存在偏差。曝光模式、曝光时间、蚀刻速率和蚀刻方法等工艺参数对制造公差的影响需要进一步探讨。
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光纤与硅波导间光栅耦合器的制造公差分析
DOI：10.1016/j.ijleo.2019.163490
期刊：Optik
出版年份：2019
更新时间：2025-09-16 10:30:52
摘要：
研究了光纤与硅基波导耦合的光栅结构及其性能。通过光栅布拉格衍射条件阐述了耦合机理，并采用时域有限差分法（FDTD）分析了光栅耦合器物理参数与对准参数对耦合效率的影响?；竦昧斯庹ゑ詈掀髦芷?、占空比、刻蚀深度及对准参数的最优设计值，同时进行了最优尺寸的偏差分析。通过器件尺寸工艺优化，我们展示了采用电子束光刻（EBL）和深硅刻蚀工艺制备的高效光栅耦合器，该成果可为光栅耦合器制备提供参考。
作者：
Yu Zheng，Xiaochao Kai，Piaopiao Gao，Ji’an Duan
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