研究目的
研究晶体取向和纳米级表面形貌对硅太阳能电池中多晶硅/氧化硅接触的影响。
研究成果
研究表明,多晶硅/氧化硅接触在纹理化表面上钝化效果较差的原因在于氧化硅层的纳米级粗糙度与不均匀性,而非金字塔表面的硅(111)晶向。该效应在硼掺杂接触中更为显著。研究指出,通过控制表面形貌可调控氧化硅层中的针孔形成过程,从而有望改善接触钝化效果。
研究不足
该研究仅限于纹理化和抛光硅表面上的硼掺杂与磷掺杂多晶硅/氧化硅接触。研究结果可能不直接适用于其他掺杂类型或接触材料。
1:实验设计与方法选择:
研究在纹理化和抛光硅表面制备poly-Si/SiOx接触,以探究表面形貌和晶体取向对接触钝化的影响。
2:样品选择与数据来源:
使用磷掺杂的n型直拉(n-Cz)Si(100)晶圆,部分晶圆采用KOH基蚀刻进行纹理化处理。
3:实验设备与材料清单:
设备包括原子力显微镜(AFM)、透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)和电子束感生电流(EBIC)测量;材料包含硅晶圆、用于纹理化的KOH以及poly-Si/SiOx层。
4:实验流程与操作步骤:
工艺包括硅晶圆纹理化、清洗、氧化、掺杂a-Si:H沉积、退火形成poly-Si,以及通过AFM、TEM、SEM和EBIC进行表征。
5:数据分析方法:
数据分析包括测量SiOx厚度、接触电阻率及开路电压(Voc)、填充因子(FF)等器件性能指标。
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