研究目的
研究电子束辐照下ZnO:Eu3+薄膜的发光特性与表面状态。
研究成果
ZnO:Eu3+薄膜表现出强烈的c轴择优取向和在电子束辐照下稳定的发光性能，使其适合作为红色光源应用于光电子领域。尽管存在表面改性和缺陷产生，其发光特性仍保持相对稳定。
研究不足
该研究承认电子束辐照过程中会产生新缺陷并导致表面粗糙度轻微变化，这些因素可能影响发光性能。研究指出，在不同条件下进一步优化薄膜性能具有潜力。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用脉冲激光沉积（PLD）技术在氧气氛围中制备ZnO:Eu3?薄膜，通过XRD、SEM、AFM、XPS、PL和CL技术分析其结构、形貌、化学成分及发光特性。
2：样品选择与数据来源：
采用溶液燃烧法制备3 mol% Eu掺杂ZnO粉末，经退火处理后压制成靶材用于PLD沉积。
3：实验设备与材料清单：
包括布鲁克D8 Advance衍射仪、JEOL JSM-7800F扫描电镜、岛津SPM-9600原子力显微镜、PHI 5000 Versaprobe XPS系统、He-Cd激光器（PL测试）及FLS980阴极荧光系统。
4：实验流程与操作步骤：
薄膜沉积于硅基底后进行表征，并通过电子束辐照研究其退化效应。
5：数据分析方法：
采用高斯-洛伦兹函数解卷积XPS峰位，谢乐公式计算晶粒尺寸，CIE坐标分析色纯度。
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FLS980 system
FLS980
Edinburgh Instruments
Exciting the sample at different wavelengths and monitoring the emission
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Recording the CL emission spectra
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Shimadzu
Scanning the sample surface and calculating the root mean square (RMS) roughness
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