研究目的
探索光电子衍射和全息技术在原子级薄层（包括界面和杂质）结构分析中的应用潜力，以制备具有理想性能的二维材料。
研究成果
该研究表明，PED和PEH分析在二维材料及其界面的结构分析中具有高效性，揭示了石墨烯亚晶格中硼浓度的不对称性及其与合成工艺和基底的依赖关系。该方法可广泛应用于各类二维体系的研究。
研究不足
该方法受限于需要预先定义二维材料及其基底的聚类以实现精确的全息分析，且对发射原子下方散射体位置的敏感性通常较低。
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通过光电子全息术解码二维材料中界面与杂质的结构
DOI：10.1088/2053-1583/ab3ea8
期刊：2D Materials
出版年份：2019
更新时间：2025-09-19 17:13:59
摘要：
原子级薄材料的特性本质上取决于其结构，包括杂质、缺陷以及与下方基底的界面。因此，详细的结构性信息对于制备具有理想性能的二维材料至关重要。本研究以h-BN、石墨烯及含硼杂质的改性石墨烯等体系为例，探究了光电子衍射与全息技术在原子级薄层结构分析中的应用能力。我们证明：对于与基底具有共格界面的平面二维晶体，能够以高空间分辨率呈现界面与杂质分布，并区分可能存在的非等效结构单元。将该方法应用于Ni(111)和Co(0001)基底上的硼掺杂石墨烯时，揭示了碳双亚晶格中硼浓度的不对称性，并确定了其与合成工艺及基底选择的关联性。结果表明，该方法可广泛应用于各类二维体系研究——其中界面与缺陷结构具有显著重要性。
作者：
Dmitry Yu Usachov，Artem V Tarasov，Viktor O Shevelev，Luca Floreano，Albano Cossaro，Alberto Verdini，Denis V Vyalikh
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