研究目的
通过使用原子力显微镜测量纹理化硅晶圆表面的精确三维形貌图，并进行光线追踪，以将实际随机金字塔与理想随机金字塔及朗伯散射体的光捕获能力进行基准测试。
研究成果
与理想随机金字塔相比，真实随机金字塔纹理展现出更优异的光捕获性能，在更少次数的反射中即可实现朗伯体行为，并在窄入射角范围内超越朗伯极限。真实随机金字塔中底角分布的差异性是其性能提升的关键因素。
研究不足
该研究仅限于所描述的特定随机金字塔样本，可能无法严格代表所有随机金字塔样本。此外，几何光学方法的使用前提是特征尺寸不会限制其适用性。
1：实验设计与方法选择：
基于原子力显微镜测量的纹理化硅片精确三维形貌图进行光线追踪模拟。
2：样品选择与数据来源：
采用碱性蚀刻形成随机纹理或倒金字塔纹理的（100）晶向单晶硅片。
3：实验设备与材料清单：
原子力显微镜（AFM）用于形貌测绘，扫描电子显微镜（SEM）用于截面成像，分光光度计用于反射率测量。
4：实验流程与操作步骤：
硅片表面AFM测量，理想随机金字塔纹理重建，光线追踪模拟研究光捕获效应。
5：数据分析方法：
根据光线追踪模拟结果计算角分布函数（ADFs）和光程增强因子。
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