研究目的
利用数值分析方法预测多晶硅中由点缺陷（金属间隙原子）和扩展缺陷（位错）引起的注入依赖型少数载流子寿命。
研究成果
建立了通过金属间隙原子和位错在多晶硅（mc-Si）中非辐射复合的模型，并对这两种复合路径进行了比较。计算得出含点缺陷间隙原子和位错的多晶硅太阳能电池的填充因子，反映了载流子寿命对光注入的依赖性。这项工作对更广泛的受众具有参考价值，包括那些设计使用硅以外材料用于聚光光伏电池的研究人员。
研究不足
本文未将点缺陷与扩展缺陷共同作用对载流子复合影响的复杂性纳入研究范围。
首页
论文列表
[2019年IEEE第46届光伏专家会议(PVSC) - 美国伊利诺伊州芝加哥(2019.6.16-2019.6.21)] 2019年IEEE第46届光伏专家会议(PVSC) - 通过点缺陷和扩展缺陷模拟多晶硅中注入依赖的非辐射复合
中文（中国）
▾
[2019年IEEE第46届光伏专家会议(PVSC) - 美国伊利诺伊州芝加哥(2019.6.16-2019.6.21)] 2019年IEEE第46届光伏专家会议(PVSC) - 通过点缺陷和扩展缺陷模拟多晶硅中注入依赖的非辐射复合
DOI：10.1109/pvsc40753.2019.8981185
出版年份：2019
更新时间：2025-09-23 15:19:57
摘要：
非辐射（NR）载流子复合限制了光伏能量转换的效率。硅中少数载流子寿命对光注入水平的依赖关系因缺陷类型不同而呈现多种变化。迄今为止，针对硅中点缺陷（如铁间隙原子）和扩展缺陷（如位错）的非辐射复合模型已被提出。由于直接测量复合中心附近的局部载流子浓度在技术上存在困难，因此计算建模有助于理解多晶硅等材料中的各种载流子复合路径。本文采用建模方法比较硅中强度相关的非辐射复合寿命。该模型的应用价值不仅限于多晶硅光伏领域。
作者：
Andrey Semichaevsky
AI智能分析
纠错
研究概述
实验方案
SCI高频之选
查看全部>
-
智能分析： Yokogawa AQ6370D是一款性能卓越的光谱分析仪，适用于光通信领域以及光放大器（EDFA）的测量和评估。其高波长分辨率、精准度和宽动态范围使其成为实验室和工业环境中的理想选择。虽然设备体积较大且预热时间较长，但其丰富的接口和出色的显示屏设计弥补了这些不足，整体是一款值得推荐的光谱分析仪。获取实验方案
-
智能分析： ZEISS EVO系列是一款高性能?？榛璧缱酉晕⒕担视糜诓牧峡蒲?、生命科学及工业质量控制等领域。其先进的技术特性包括高分辨率、广泛加速电压范围和集成EDS系统。该产品操作直观，支持多用户环境，适合科学研究和工业应用。然而，价格信息缺失以及潜在的维护成本可能是其需要注意的方面。总体而言，ZEISS EVO系列表现优秀，值得推荐给专业用户。获取实验方案 -
智能分析： ZEISS Crossbeam系列是蔡司公司推出的一款高端光电分析设备，结合了场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）和聚焦离子束（FIB）的功能，适用于材料科学、纳米技术和半导体行业等多个领域。其高分辨率成像能力和自动化样品制备功能使其成为高通量分析的理想选择。此外，该设备支持多种检测器，具备强大的多功能性，是高精度研究和工业应用的利器。然而，由于其高端定位，设备成本较高且操作需要专业技能。总体而言，该设备表现卓越，为科学研究和工业应用提供了先进的解决方案。获取实验方案 -
智能分析： Axio Observer是一款专为金相学研究设计的倒置显微镜系统，以其高效的设计和蔡司知名的光学技术为特色。它能够快速、灵活地分析大量样品，并支持自动化操作，适用于多种应用场景，包括晶粒尺寸分析、非金属夹杂物检测等。然而，其重量较大且光源寿命较短，可能对使用者提出了额外的维护和空间管理需求。总体而言，这款产品在性能和可靠性方面表现出色，特别适合专业实验室使用。获取实验方案 -
型号：ZEISS LSM 990 Spectral Multiplex
智能分析： ZEISS LSM 990 Spectral Multiplex是一款定位于高端科研机构的光谱成像系统，具有卓越的光谱分辨率和自动化功能，适用于复杂的生物、医学及材料科学实验。其高效的荧光标签分离能力和多功能自动化设计为用户提供了强大的实验支持。然而，高昂的价格和一定的学习曲线可能对中小型实验室构成挑战。总体而言，这是一款性能优越、适应性强的高端实验设备。获取实验方案 -
智能分析： ZEISS Sigma 300 with RISE是蔡司公司推出的一款高端光谱分析仪，集成了拉曼成像和扫描电子显微镜技术，能够提供高质量的化学和结构分析。其功能强大，支持多领域应用，但设备价格较高且操作学习曲线可能较陡。适用于科研机构和高端实验室，是材料科学和生命科学领域的理想选择。获取实验方案
立即咨询
加载中....
论文纠错
您正在对论文“[2019年IEEE第46届光伏专家会议(PVSC) - 美国伊利诺伊州芝加哥(2019.6.16-2019.6.21)] 2019年IEEE第46届光伏专家会议(PVSC) - 通过点缺陷和扩展缺陷模拟多晶硅中注入依赖的非辐射复合”进行纠错
纠错内容
联系方式（选填）
设备询价
称呼
电话
+86
单位名称
用途
期望交货周期
产品预约
称呼
电话
+86
单位名称
用途
期望交货周期