研究目的
为研究沉积角度对等离子体金纳米锥和纳米圆盘制备的影响,重点关注金属蒸发过程中自遮蔽效应所形成纳米结构的对称性与形貌。
研究成果
研究表明,只有当金属沉积方向几乎完全垂直于样品表面时,才能形成对称的金属纳米锥。沉积过程中的微小倾斜或横向偏移会导致非对称纳米结构的产生。这一发现强调了控制沉积方向性的重要性,并为制备可用于电寻址芯片的复杂互联纳米锥结构提供了潜在可能。
研究不足
该研究强调了实现金属沉积与样品表面完全垂直的难度,这对形成对称纳米锥至关重要。物理气相沉积方法固有的多向性以及衬底平面排列的不完美可能导致非对称纳米结构。这些不对称性在传统俯视扫描电镜图像中难以识别,表明需要从多个视角进行成像。
1:实验设计与方法选择:
本研究采用电子束光刻(EBL)和金电子束蒸镀技术制备有序的金锥形纳米结构阵列,利用金属蒸镀过程中的自遮蔽效应在圆柱形纳米孔模板内形成纳米锥体。
2:样本选择与数据来源:
对硅基底进行清洗并旋涂正性电子束光刻胶,通过EBL图案化出标称直径为50、100和200纳米的六边形圆形纳米孔阵列。
3:100和200纳米的六边形圆形纳米孔阵列。
实验设备与材料清单:
3. 实验设备与材料清单:用于EBL的扫描电子显微镜(SEM,MIRA3,Tescan)、用于金属沉积的超高真空电子束蒸发器(Bestec GmbH),以及用于氧等离子体处理的PlasmaPro NGP 80(牛津仪器有限公司)。
4:实验流程与操作步骤:
完成EBL图案化后,对光刻胶进行显影处理,经氧等离子体剥离后依次覆盖钛粘附层和金膜,最后通过剥离工艺去除光刻胶及周围金属,获得独立式纳米结构。
5:数据分析方法:
通过多角度SEM成像观察所得纳米结构的形貌,评估其对称性与形状特征。
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