研究目的
开发能够长时间承受20千瓦及以上激光功率的坚固光学解决方案，重点消除透射元件以减少焦点偏移并改善热管理。
研究成果
HPRFO2光学系统展现出极小的焦点偏移和卓越的热管理性能，使其成为高功率激光应用的可靠解决方案。专利气动窗口有效?；す丶考馐芪廴?，改进后的设计提升了光路校准精度与冷却效率。
研究不足
该研究聚焦于反射光学器件在高功率激光应用中的性能表现，但对热管理及对准灵敏度进一步优化的潜力讨论有限。
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[美国激光学会ICALEO? 2015：第34届国际激光材料加工、激光微加工与纳米制造大会 - 美国佐治亚州亚特兰大市（2015年10月18-22日）] 激光与电光应用国际大会 - 新一代高功率反射式聚焦光学系统（HPRFO）
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[美国激光学会ICALEO? 2015：第34届国际激光材料加工、激光微加工与纳米制造大会 - 美国佐治亚州亚特兰大市（2015年10月18-22日）] 激光与电光应用国际大会 - 新一代高功率反射式聚焦光学系统（HPRFO）
DOI：10.2351/1.5063209
出版年份：2015
更新时间：2025-09-23 15:19:57
摘要：
随着高功率激光市场的持续增长，对能够承受激光焊接固有严苛环境的高性能光学解决方案的需求也在同步上升。EWI不断突破高功率光学器件的设计极限，其产品可长期承受20千瓦及以上激光功率。EWI第二代高功率反射式聚焦光学器件（简称HPRFO2）采用专利气动窗口实现关键部件内部防护，改进了工艺废气?；すδ懿⒂呕斯馐渎肪丁３そ咕嗌杓圃诓挥跋旖沟愠叽绲那疤嵯?，将核心光学元件与恶劣焊接环境隔离。首代HPRFO的公开测试结果显示其焦点偏移量极小，远超市售同类产品。本研究设计并测试了量产强化版本，在继承首代成功要素的同时融入实践经验改进：非对称非球面镜采用更浅的折叠角度（较原版HPRFO）、可适配的废气管理方案以及优化的热管理设计。HPRFO2初期测试展现出卓越性能与市售产品无可比拟的可靠性。
作者：
Blake McAllister，Jacob Marchal
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