研究目的
研究将场辅助超线性阈值选择器与阻变随机存取存储器(RRAM)集成,以克服交叉点RRAM阵列中的潜行电流问题,从而实现高密度、高性能的存储应用。
研究成果
场辅助超线性阈值选择器与RRAM的集成成功解决了交叉点阵列中的漏电流问题,具有高选择性、可调阈值电压和优异耐久性。1S1R结构展现出在高密度高性能存储应用中的巨大潜力,通过先进制造工艺和材料优化有望进一步提升性能。
研究不足
该研究聚焦于将FAST选择器与RRAM集成以实现高密度存储应用,但未探究超过4 Mb阵列的可扩展性,也未研究进一步微型化对器件性能的影响。此外,FAST选择器开关行为背后的确切机制仍需深入探究。
1:实验设计与方法选择:
本研究采用场辅助超线性阈值(FAST)选择器与RRAM集成,以抑制交叉点阵列中的漏电流。评估了FAST选择器的性能指标,包括选择性、开关斜率、阈值电压可调性及耐久性。
2:样本选择与数据来源:
器件采用130纳米CMOS技术制造,未对标准工艺设备进行任何改动。
3:实验设备与材料清单:
包括FAST选择器、RRAM单元及通过标准CMOS工艺制造的交叉点阵列。
4:实验流程与操作步骤:
研究涉及FAST选择器的制备与电学表征,以及其与RRAM在1S1R结构中的集成。测量了包括I-V特性、耐久性和漏电流在内的电学性能。
5:数据分析方法:
基于选择性、存储ON/OFF比及循环耐久性,分析集成1S1R器件的性能。
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