研究目的
开发一种简单、省时、直接在基于柔性、高导电超长铜纳米线透明电极上进行图案化的方法，并优化图案化过程中的激光烧蚀参数，且不损伤柔性基底。
研究成果
该研究利用纳秒脉冲激光的选择性直接烧蚀技术，成功基于铜纳米线开发出精密图案化的柔性透明电极（FTEs）。优化的激光参数有效避免了柔性基底的热损伤。所制备的双功能PDCL柔性智能窗展示了该技术在柔性电子器件领域的应用潜力。
研究不足
该研究聚焦于柔性基底上铜纳米线图案化的激光参数优化，但未深入探讨该工艺在工业应用中的可扩展性，也未研究图案化电极在不同环境条件下的长期稳定性。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用纳秒脉冲激光直写技术制备铜纳米线电极，通过有限元建模（FEM）分析激光与材料的相互作用机制。
2：样品选择与数据来源：
采用十六烷基胺介导法合成超长铜纳米线，在PET基底上制备铜纳米线薄膜。
3：实验设备与材料清单：
使用1064nm掺镱脉冲光纤激光器进行图案化加工，实验材料包括二水合氯化铜(II)、D-(+)-葡萄糖、正己烷、聚乙烯吡咯烷酮、异丙醇和十六烷基胺。
4：实验流程与操作步骤：
激光图案化过程包含对铜纳米线薄膜的扫描加工，随后浸入乙酸溶液提升导电性，最终制备双功能柔性智能窗展示应用效果。
5：数据分析方法：
通过测量方阻和光学透过率表征透明电极性能，采用原子力显微镜（AFM）测定表面粗糙度。
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