研究目的
优化激光图案化工艺和?？樯杓?，采用薄型OMO背电极的透明非晶硅薄膜模块，应用于建筑一体化光伏领域。
研究成果
该研究成功优化了采用薄型OMO背电极的透明非晶硅薄膜组件的激光图案化工艺与?？樯杓啤Ｋ迪值淖罡吣？樾视肫骄腹饴史直鹞?.6%和15.2%，展现了建筑一体化光伏应用的潜力。
研究不足
该研究强调了模块性能对P2和P3工艺中激光功率的敏感性，表明扩大制造规模可能存在潜在挑战。效率与透明度之间的权衡也对某些应用构成了限制。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用氧化物-金属-氧化物（OMO）电极作为背电极，制备了透明氢化非晶硅薄膜太阳能组件。通过有限时域差分（FDTD）方法和PSpice仿真的等效电路建模分析其光学与电学特性。
2：样品选择与数据来源：
样品制备于商用玻璃基底上，沉积有纹理氟掺杂氧化锡（FTO）层。通过改变i层厚度（200、300和400纳米）观察电池特性对i层厚度的依赖性。
3：300和400纳米）观察电池特性对i层厚度的依赖性。 实验设备与材料清单：
3. 实验设备与材料清单：使用二极管泵浦固态（DPSS）激光器进行图案化工艺。各层通过磁控溅射系统和射频（RF）等离子体增强化学气相沉积（PECVD）沉积。
4：实验步骤与操作流程：
采用三步划刻工艺（P1、P2和P3）实现组件中太阳能电池的单片互联。通过观察剖面并测量分流电阻优化P2和P3工艺的激光功率。
5：P2和P3）实现组件中太阳能电池的单片互联。通过观察剖面并测量分流电阻优化P2和P3工艺的激光功率。 数据分析方法：
5. 数据分析方法：使用FDTD方法评估光学透射率和吸光率。通过太阳模拟器测量太阳能电池及组件的J-V特性。
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获取完整内容-
Diode-pumped solid state (DPSS) laser
Nd:YVO4
Used for the patterning process in the fabrication of transparent amorphous silicon thin-film solar modules.
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Magnetron sputtering system
Used for the deposition of oxide and metal layers in the fabrication of OMO electrodes.
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Radio frequency (RF) plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD)
Used for the deposition of p-, i-, and n-type layers on the substrate.
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Solar simulator
Oriel 300
Newport Co.
Used to measure the J-V characteristics of the solar cells and modules under standard 1-sun illumination.
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Spectroscopic ellipsometer
SE MG-1000
Nano-View Co.
Used to determine the refractive indices, extinction coefficients, and thickness of the absorber layer on the glass substrates.
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Ultraviolet–visible (UV–VIS) spectrophotometer
Cary 5000
Varian
Used to obtain the transmittance and reflectance of the cells.
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