研究目的
研究基于原子层沉积法生长的氧化锌MIS结构在肖特基光电探测器应用中的电学特性。
研究成果
所制备的Al/ZnO/p-Si肖特基势垒二极管展现出良好的电学特性，适用于近红外肖特基光电探测器应用。其势垒高度和理想因子值在不同测量方法间具有一致性，界面态密度处于器件性能可接受范围内。
研究不足
该研究在室温黑暗条件下进行，限制了对二极管在不同光照条件和温度下性能的理解。通过不同方法获得的势垒高度值差异表明测量技术可能存在不准确性。
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基于原子层沉积法生长的氧化锌基MIS结构电学特性分析
DOI：10.1088/2053-1591/aaeded
期刊：Materials Research Express
出版年份：2018
更新时间：2025-09-23 15:21:01
摘要：
氧化锌薄膜通过原子层沉积（ALD）法生长于p型硅衬底上，用于制备金属-绝缘体-半导体（MIS）型肖特基势垒二极管（SBHS）。研究人员对编号为D1、D2和D3的三种二极管电学特性进行了测试，采用二次离子质谱（SIMS）和原子力显微镜（AFM）分析了表面特性与薄膜结构。在室温暗态条件下测量了Al/ZnO/p-Si结构的电流-电压（I-V）特性，并通过Norde函数、Cheung方法及热电子发射（TE）理论测算了这些结构的势垒高度（?b）、理想因子（n）和串联电阻（Rs）等电学参数。发现Cheung方法与I-V法计算的势垒高度值存在差异，基于I-V特性研究了界面态密度（Dit）。实测特性的非理想行为表明存在界面态影响。结果表明所制备二极管可用于近红外肖特基光电探测器应用。
作者：
Nuriye Kaymak，E. Efil，E. Seven，A. Tataro?lu，S. Bilge Ocak，E. ?z Orhan
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