研究目的
研究激光诱导低应力氮化硅（SiNx）薄膜和膜层变薄的机制，用于制备超薄非对称纳米孔。
研究成果
该研究详细揭示了SiNx膜的激光诱导蚀刻机制，并展示了一种制备超小且超薄纳米孔的方法。这些纳米孔在生物分子分析领域具有潜在应用，包括DNA测序和生物标志物检测。
研究不足
该研究的局限性在于激光聚焦的精度以及SiNx膜特性的可变性。蚀刻过程受周围环境和电解液成分的影响，这可能会影响重现性。
1：实验设计与方法选择：
将可见波长激光束聚焦于SiNx薄膜上，以研究其刻蚀与减薄机制。
2：样品选择与数据来源：
采用带有独立支撑SiNx膜的硅芯片。
3：实验设备与材料清单：
倒置显微镜（Olympus IX71）、Ag/AgCl电极、电光调制器（EOM，Conoptics 302RM）、透射电子显微镜（JEOL 2010F）。
4：1）、Ag/AgCl电极、电光调制器（EOM，Conoptics 302RM）、透射电子显微镜（JEOL 2010F）。 实验步骤与操作流程：
4. 实验步骤与操作流程：对薄膜施加电压，测量电流变化，并利用激光照射诱导刻蚀。
5：数据分析方法：
通过分析离子电流变化、TEM图像及AFM测量结果，确定刻蚀速率与孔径尺寸。
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Olympus IX71
IX71
Olympus
Inverted microscope used for focusing laser beam on SiNx membrane.
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Transmission electron microscopy
JEOL 2010F
JEOL
Used for fabricating nanopores and imaging SiNx membranes.
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Electro-optic modulator
302RM
Conoptics
Used for rapid control over the laser power.
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Ag/AgCl electrodes
Used to apply voltage and measure current across the membrane.
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