研究目的
研究新型无电极局部阳极氧化(EFLAO)技术,实现低维材料及异质结构的高精度、高灵活性原位图案化。
研究成果
无电极的LAO技术能够在无需预置微电极的情况下,实现低维材料与异质结构的高质量原位图案化。该技术为制备超洁净纳米级器件提供了一种简便高效且极具灵活性的方法。
研究不足
该技术需要特定的环境条件(相对湿度介于40%~75%之间)以及高频交流电压(>10 kHz)才能达到最佳性能。蚀刻质量和成功率高度依赖于这些参数。
研究目的
研究新型无电极局部阳极氧化(EFLAO)技术,实现低维材料及异质结构的高精度、高灵活性原位图案化。
研究成果
无电极的LAO技术能够在无需预置微电极的情况下,实现低维材料与异质结构的高质量原位图案化。该技术为制备超洁净纳米级器件提供了一种简便高效且极具灵活性的方法。
研究不足
该技术需要特定的环境条件(相对湿度介于40%~75%之间)以及高频交流电压(>10 kHz)才能达到最佳性能。蚀刻质量和成功率高度依赖于这些参数。
加载中....
您正在对论文“无电极阳极氧化纳米光刻技术用于低维材料”进行纠错
纠错内容
联系方式(选填)
称呼
电话
单位名称
用途
期望交货周期
称呼
电话
单位名称
用途
期望交货周期