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透明导电材料(材料、合成、表征、应用)|| 金属纳米线

DOI:10.1002/9783527804603.ch2_3 出版年份:2018 更新时间:2025-09-23 15:21:21
摘要: 金属纳米线是一维的金属实体,具有单晶或多晶特性[1]。过去二十年间,由于其在等离激元学[2]、电子学[3]、电催化[4]等领域的重要应用,金属纳米线引发了巨大的研究关注。近十年来,研究人员尝试将金属纳米线涂覆在透明基底上制成透明导电薄膜(TCF)[5-7]。基于金属纳米线的TCF在可见光透明度和导电性方面快速提升,性能已可比肩最先进的氧化铟锡(ITO)TCF[8-10]。对金属纳米线TCF潜在应用的认可激发了其合成研究的热情。迄今已合成了多种金属纳米线,包括银纳米线(AgNWs)[11]、金纳米线(AuNWs)[12]、铜纳米线(CuNWs)[13]和铂纳米线[14]。双组分金属纳米线如Cu@Ni[15]、Ag@Au[16]、Cu@Ag[17]、Ag@Ni[18]和Cu@Pt[19]核壳结构纳米线也已成功制备。这些纳米线被涂覆在基底上制成TCF并进行了性能表征。在金属纳米线TCF研究初期,其透明度低于80%,方阻高达数千欧至兆欧。为提升性能,学界已广泛开展实验研究和理论建模。
作者: Chao Chen,Changhui Ye
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研究概述 实验方案 设备清单

探索金属纳米线透明导电薄膜(TCFs)的合成、制备及其在等离激元学、电子学和电催化领域的应用性能。

金属纳米线透明导电薄膜(TCFs),尤其是银纳米线(AgNW)TCFs,在透明度和导电性方面已展现出与氧化铟锡(ITO)TCFs相当甚至更优的性能。然而,要实现其在柔性及可拉伸电子器件中的实际应用,仍需解决均匀性、雾度因子和稳定性等挑战。

金属纳米线透明导电薄膜的均匀性和雾度系数仍是工业化应用面临的挑战,其抗氧化、抗硫化和抗机械应力的稳定性有待进一步提升。

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