研究目的
研究长余辉材料Sr2MgSi2O7:Eu2+,Dy3+的晶粒元素梯度与发光机制。
研究成果
研究表明，Sr2MgSi2O7:Eu2+,Dy3+中的元素梯度与缺陷分布显著影响其发光性能。研究提出了一种区分浅陷阱与深陷阱的新发光模型，该模型解释了材料的余辉行为。
研究不足
该研究聚焦于Sr2MgSi2O7:Eu2+,Dy3+材料及其对酸腐蚀的响应，若无进一步研究，可能无法直接适用于其他长余辉材料。
1：实验设计与方法选择：
采用不同酸蚀时间处理长余辉材料Sr2MgSi2O7:Eu2+,Dy3+，研究晶粒由表及里的元素梯度分布。
2：样品与数据来源：
使用分析纯SrCO3、MgO、SiO2、H3BO3及高纯度Eu2O3（99.99%）、Dy2O3（99.99%）。
3：MgO、SiOH3BO3及高纯度Eu2O3（99%）、Dy2O3（99%）。 实验设备与材料清单：
3. 实验设备与材料清单：X射线粉末衍射仪（日本理学D/Max-2200型）、场发射扫描电镜（日立S-4800）、紫外-可见-近红外光谱仪（爱丁堡FS5）、日立F4600荧光分光光度计、长余辉材料光学测试系统、ROSB TL/OSL3DP热释光剂量仪。
4：0）、紫外-可见-近红外光谱仪（爱丁堡FS5）、日立F4600荧光分光光度计、长余辉材料光学测试系统、ROSB TL/OSL3DP热释光剂量仪。 实验流程：
4. 实验流程：通过高温固相反应法合成荧光粉，经不同时间酸蚀处理后进行分析。
5：数据分析方法：
采用XRD分析样品物相结构，FESEM表征表面形貌，测量紫外-可见漫反射光谱。
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X-ray powder diffraction
Rigaku D/Max-2200 type
Rigaku
Analyzing the structures and phases of the samples
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Field emission scanning electron microscope
Hitachi S-4800
Hitachi
Characterizing the surface morphologies of the samples
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UVeVis-near-IR spectrometer
Edinburgh FS5
Edinburgh
Measuring the UVeVis diffuse-relection spectra
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Fluorescence spectrometer
Hitachi F4600
Hitachi
Recording the Photoluminescence (PL) excitation and emission spectra of the samples
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Thermoluminescent dosimeter
ROSB TL/OSL3DP
ROSB
Getting the thermoluminescence (TL) curves
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