研究目的
在蚀刻钛基底上制备纳米花状结构WO3薄膜以增强光电化学性能。
研究成果
在蚀刻钛基底上制备的纳米花状结构WO3薄膜，由于光吸收能力增强、活性位点增多以及光生电子的直接传输通道，展现出优异的光电化学性能。
研究不足
制备的WO3光阳极由于电子转移能力差、活性位点少以及费米能级电位过正，其光电转换效率仍远低于理论值。
1：实验设计与方法选择：
采用WO3晶种辅助水热反应法，在刻蚀钛基底上制备纳米花状结构WO3薄膜。
2：样品选择与数据来源：
以浓盐酸溶液刻蚀的钛片作为基底。
3：实验设备与材料清单：
扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电镜(TEM)、紫外-可见漫反射光谱仪(UV/Vis DRS)、荧光光谱仪、电化学工作站。
4：实验步骤与操作流程：
刻蚀钛基底制备、WO3晶种层涂覆、100°C下水热反应不同时间、退火处理。
5：数据分析方法：
光电流-时间(i-t)曲线、光电流-电压(i-V)曲线、入射光子-电子转换效率(IPCE)、电化学阻抗谱(EIS)、莫特-肖特基曲线等光电化学性能测试。
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Rigaku Co.
Identification of crystalline structures of the prepared WO3 nanoflower structured thin-film photoelectrodes.
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