研究目的
利用甚高频等离子体增强化学气相沉积（VHF-PECVD）方法研究制备参数对硅薄膜生产的影响，以实现形态明确且可调的硅薄膜制备。
研究成果
研究表明，通过控制甚高频等离子体增强化学气相沉积（VHF-PECVD）的制备参数可形成高质量硅纳米线。沉积温度、时间和氢气流速对形貌有显著影响，在最佳条件下纳米线通过气-液-固（VLS）机制形成。
研究不足
该研究尚属初步阶段，主要关注制备参数对形貌的影响。需进一步优化与表征才能全面理解。
甚高频等离子体增强化学气相沉积（VHF-PECVD）制备参数对金催化剂辅助硅薄膜生长形貌变化的影响
DOI：10.11113/jt.v76.4030
期刊：Jurnal Teknologi
出版年份：2015
更新时间：2025-09-10 09:29:36
摘要：
实现具有明确可调形貌的二维硅量子结构是一个悬而未决的问题。我们展示了采用甚高频等离子体增强化学气相沉积（VHF-PECVD）法制备参数依赖性硅薄膜的初步成果。通过在Si(100)基底上使用金（Au）催化剂，并调节沉积时间、温度及前驱体气体流量等不同参数，制备了五个样品。利用场发射扫描电子显微镜（FESEM）分析样品形貌。结果表明：在沉积过程中，当前驱体气体（硅烷）与大量氢气共同通入时，所得硅薄膜更为光滑均匀。更有趣的是，当沉积时间延长至1小时，薄膜中出现了硅纳米线。这种形貌转变归因于与沉积过程相关的汽-液-固（VLS）生长机制。
作者：
Khaidzir Hamzah，M. Abdullah Izat Mohd Yassin，Sib Krishna Ghoshal，M. Akmal Hasanudin，Abdul Khamim Ismail
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