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具有甲氧基硅端基的聚丙烯酸分散剂的光聚合合成及其在纳米SiO?水体系中的应用

DOI:10.1002/pi.5749 期刊:Polymer International 出版年份:2018 更新时间:2025-09-10 09:29:36
摘要: 为了提高高固含量纳米SiO?水体系的分散性和稳定性,通过以(3-巯基丙基)三甲氧基硅烷(KH-590)引发丙烯酸(AA)光聚合,合成了一种甲氧基硅端基聚丙烯酸分散剂(KH590-PAA)。将KH590-PAA加入固含量20 wt%的纳米SiO?水分散体系中后,采用旋转粘度计和倒瓶法分别测定体系的粘度和固化时间。此外,通过电导率仪、动态光散射(DLS)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)分别测量吸附量、粒径和纳米颗粒的Zeta电位,研究了KH590-PAA对纳米SiO?水体系的分散机理。结果表明,在搅拌过程中,KH590-PAA中的甲氧基硅基团可与纳米SiO?表面的羟基发生反应,增强了分散剂的吸附能力,从而提高了颗粒的表面电荷。因此,通过添加KH590-PAA分散剂,可进一步增强SiO?纳米颗粒间的静电排斥和空间位阻效应,使纳米SiO?水体系表现出更好的分散性和稳定性。此外,SiO?纳米颗粒在水中的分散性能与KH590-PAA分散剂的添加量和分子量密切相关。
作者: Bing Yang,Yu Zhou,Wenjie Yu,Song Zhang,Hongxiang Chen,Ju Ye
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研究概述 实验方案 设备清单

通过光聚合合成具有甲氧基硅烷端基的聚丙烯酸分散剂(KH590-PAA),以提高高固含量纳米SiO2水体系的分散性和稳定性。

通过光聚合合成的KH590-PAA分散剂显著提高了纳米SiO2水体系的分散性和稳定性。分散性能与KH590-PAA的含量和分子量密切相关,在1.0 wt%含量和16,000 g/mol分子量时获得最佳效果。

该研究聚焦于高固含量水体系中纳米SiO?的分散特性,但光聚合合成及分散过程所需的特定条件可能限制其实际应用。

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