研究目的
通过工业磨机中的机械化学合成法研究纳米结构硫化铜（CuS）半导体的合成、结构及光学性质。
研究成果
该研究成功展示了一种在工业磨机中简单、快速且便捷的一步机械化学合成纳米结构硫化铜（CuS）的方法。产物呈现六方晶系结构，热稳定性可达180°C，光学带隙为1.80电子伏特。由于该方法具有生态友好和工艺优势，适用于商业化生产。
研究不足
该研究的局限性在于纳米颗粒的聚集会影响光学特性，且合成工艺需进一步优化以实现商业化生产。
1：实验设计与方法选择：
采用工业偏心振动磨研磨铜粉和硫粉进行硫化铜的机械化学合成，研究了合成动力学及铜粉前驱体类型的影响。
2：样品选择与数据来源：
使用两种铜粉前驱体（Cua和Cue）及硫粉，产物通过XRD、比表面积测定、粒径分布、SEM、EDX、TG/DTG、DTA、UV-Vis和PL光谱进行表征。
3：实验设备与材料清单：
工业偏心振动磨ESM 656–0.5 ks、D8 Advance衍射仪、Gemini 2360吸附仪、Helos/KR&Quixel粒径分析仪、MIRA3场发射扫描电镜、STA 449 F3 Jupiter热分析仪、UV-Vis分光光度计Helios Gamma、光子计数荧光光谱仪PC1。
4：5 ks、D8 Advance衍射仪、Gemini 2360吸附仪、Helos/KR&Quixel粒径分析仪、MIRA3场发射扫描电镜、STA 449 F3 Jupiter热分析仪、UV-Vis分光光度计Helios Gamma、光子计数荧光光谱仪PC1。 实验流程与操作步骤：
4. 实验流程与操作步骤：在特定条件下研磨铜粉和硫粉，随后采用上述技术进行表征。
5：数据分析方法：
使用Diffracplus Eva工具进行XRD物相分析，Diffracplus Topas软件进行Rietveld精修，BET法测定比表面积，激光衍射法测定粒径分布，TG/DTG-DTA分析热稳定性，UV-Vis和PL光谱研究光学性能。
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获取完整内容-
X-ray diffractometer
D8 Advance
Bruker
Used for XRD measurements to confirm the crystal structure of CuS.
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UV-Vis spectrophotometer
Helios Gamma
Thermo Electron Corporation
Used for absorption spectra measurements.
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industrial eccentric vibratory mill
ESM 656–0.5 ks
Siebtechnik
Used for the mechanochemical synthesis of CuS.
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sorption apparatus
Gemini 2360
Micromeritics
Used for specific surface area measurements by the BET method.
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particle size analyzer
Helos/KR&Quixel
Sympatec
Used for measuring particle size distribution.
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scanning electron microscope
MIRA3 FE-SEM
TESCAN
Used for SEM study of CuS morphology.
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thermal analyzer
STA 449 F3 Jupiter
Netzsch
Used for thermal analysis (TG/DTG-DTA) of CuS.
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spectrofluorometer
PC1
ISS
Used for PL spectra measurements.
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