研究目的
研究基于环氧树脂的光刻胶在X射线和紫外线照射下的制备、表征及灵敏度。
研究成果
基于环氧树脂的光刻胶成功制备，其密度为1 g·mL?1至1.23 g·mL?1，动态粘度为7 Cp至22 Cp，运动粘度为7 Cst至18 Cst。该光刻胶在350 nm至1050 nm波长范围内的吸光度为0.2至0.5，产生的电流高达(5.71 × 10?1?) A至(1.84 × 10??) A。其表面结构均匀，可见乙醇残留孔隙。经紫外曝光后，两种光刻胶均形成可显影图案，不同灵敏度取决于光致产酸剂和显影液。X射线显影的光刻胶未能形成图案。
研究不足
X射线显影的光刻胶无法形成图案。对比度差异受溶液和显影剂的影响。
1：实验设计与方法选择：
通过加热磁力搅拌器混合环氧树脂、三水合乙酸钠和乙醇制备光刻胶。采用旋涂法制备光刻胶薄膜。
2：样品选择与数据来源：
固定三水合乙酸钠用量，改变乙醇质量，制备五种不同配比的环氧树脂样品。
3：实验设备与材料清单：
电子天平、加热磁力搅拌器、温度计、烧杯、量筒、筛网过滤器、玻璃基板、旋涂仪、烘箱、奥斯特瓦尔德粘度计、海洋光学Vis-NIR USB 4000光谱仪、Elkahfi 100伏安表、MS-804显微镜、印刷电路板（PCB）、铝箔、紫外灯和X射线机。
4：实验步骤与操作流程：
使用磁力搅拌器加热至75°C进行混合。将光刻胶在150°C下旋涂于基板，持续15分钟。
5：数据分析方法：
测量制备的光刻胶液体的密度和粘度。对玻璃基板上的光刻胶薄膜进行表征，测定吸光度、产生的电流与电压以及薄膜表面结构。
独家科研数据包，助您复现前沿成果，加速创新突破
获取完整内容-
spectrometer ocean optic Vis-NIR USB 4000
USB 4000
ocean optic
Measuring absorbances of photoresist thin films
-
digital balance
Measuring mass of materials
-
heated magnetic stirrer
Mixing and heating the photoresist solution
-
thermometer
Measuring temperature
-
beaker glass
Holding the photoresist solution
-
measuring glass
Measuring volumes of liquids
-
screen filter
Filtering the photoresist solution
-
substrate glass
Base for photoresist thin films
-
spin coater
Growing photoresist thin films
-
oven
Heating the photoresist thin films
-
viscometer Ostwald
Measuring viscosities of photoresist solutions
-
I-Vmeter elkahfi 100
100
elkahfi
Measuring generated currents and voltages
-
microscope MS-804
MS-804
Observing structures of photoresist thin films
-
printed circuit board (PCB)
Substrate for photoresist sensitivity testing
-
aluminum foil
Used in the experiment
-
UV light
Exposing photoresist surfaces
-
X-ray machine
Exposing photoresist surfaces
-
登录查看剩余15件设备及参数对照表
查看全部
