研究目的
研究衬底温度对射频磁控溅射沉积ZnO薄膜的微观结构、光学及电学性能的影响。
研究成果
衬底温度的升高提升了氧化锌薄膜的性能，使其具有更低的电阻率和更宽的光学带隙。该薄膜在可见光范围内实现了84%的高光学透过率，因而适用于需要高透明度和低电阻率的应用场景。
研究不足
该研究仅限于探讨衬底温度对ZnO薄膜性能的影响，并未考察其他可能影响薄膜特性的沉积参数或条件。
1：实验设计与方法选择：
通过射频磁控溅射在不同衬底温度下于玻璃基板上沉积氧化锌薄膜，研究了衬底温度对微观结构、光学及电学性能的影响。
2：样品选择与数据来源：
在康宁2000玻璃基板上制备了一系列不同温度（25、100、200和275℃）的ZnO薄膜。
3：200和275℃）的ZnO薄膜。 实验设备与材料清单：
3. 实验设备与材料清单：射频磁控溅射系统（ULVAC MB06-4703）、原子力显微镜（精工仪器SPA 400）、X射线衍射仪（岛津LabX XRD-6000）、珀金埃尔默Lambda 750光谱仪、霍尔测量系统（Ecopia HMS-300）。
4：3）、原子力显微镜（精工仪器SPA 400）、X射线衍射仪（岛津LabX XRD-6000）、珀金埃尔默Lambda 750光谱仪、霍尔测量系统（Ecopia HMS-300）。 实验流程与操作步骤：
4. 实验流程与操作步骤：沉积前对衬底进行清洗制备，抽真空后在不同衬底温度下沉积ZnO薄膜，随后检测薄膜的微观结构、光学透过率及电学性能。
5：数据分析方法：
采用谢乐公式根据XRD谱计算ZnO薄膜晶粒尺寸，测量光学透过率并通过霍尔效应测量评估电学性能。
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获取完整内容-
X-ray diffraction
Shimadzu LabX XRD-6000
Shimadzu
Examination of crystalline structure and preferential orientation of ZnO films.
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Spectrometer
Lambda 750
Perkin Elmer
Measurement of optical transmittance of ZnO films.
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Radio frequency magnetron sputtering system
ULVAC MB06-4703
ULVAC
Deposition of ZnO thin films on glass substrates.
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Atomic force microscopy
Seiko Instruments Inc. SPA 400
Seiko Instruments Inc.
Examination of surface topography of ZnO films.
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Hall measurement system
Ecopia HMS-300
Ecopia
Characterization of electrical properties of ZnO films.
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