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利用乙醇进行等离子体增强化学气相沉积法生长石墨烯

DOI:10.3844/ajeassp.2016.574.583 期刊:American Journal of Engineering and Applied Sciences 出版年份:2016 更新时间:2025-09-04 15:30:14
摘要: 提出一种改进的化学气相沉积(CVD)技术路线,以铜基底为支撑体合成石墨烯薄片。所用碳源为乙醇,合成温度为950°C,整个过程压力受控。在此CVD合成过程中,碳源在低压和950°C条件下引入,导致石英管内出现等离子蓝闪现象。显然,这种等离子蓝闪的存在是获得石墨烯薄片的必要条件。通过多种技术对合成的石墨烯进行表征,结果显示其具有高纯度的非氧化石墨烯。
作者: Teresa Campo,María Cotto,Francisco Márquez,Eduardo Elizalde,Carmen Morant
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研究概述 实验方案 设备清单

提出一种改进的合成石墨烯片层的方法,采用化学气相沉积(CVD)技术,以铜为基底、乙醇为碳源,旨在制备高纯度非氧化态石墨烯。

成功开发出一种基于等离子体辅助化学气相沉积(CVD)的新型方法,在铜基底上制备出石墨烯薄片。合成的石墨烯经表征为未氧化且无缺陷,显示出在纳米电子器件、传感器和储能应用方面具有良好前景。

不需要的副产物和结构损伤是不可避免的。将石墨烯转移到其他载体上的过程可能会增加石墨烯样品的缺陷数量。

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