1：实验设计与方法选择：

本研究采用高精度辐射计在受控气氛（氩气和空气）中测量镍和氧化镍的光谱发射率。使用改进的黑体法以避免虚假反射，并通过高温黑体和高等发射率涂层对辐射计进行校准。镍的温度通过热电偶测量，氧化镍的温度则采用克里斯琴森波长法测定。

2：样品选择与数据来源：

使用直径50毫米、厚度3.2毫米的高纯度（99.999%）镍溅射靶材，经机械抛光获得低粗糙度镜面（Ra=0.03微米，Rq=0.04微米）。氧化样品通过X射线衍射、光学显微镜和扫描电子显微镜进行表征。

3：2毫米的高纯度（999%）镍溅射靶材，经机械抛光获得低粗糙度镜面（Ra=03微米，Rq=04微米）。氧化样品通过X射线衍射、光学显微镜和扫描电子显微镜进行表征。 实验设备与材料清单：

3. 实验设备与材料清单：设备包括机械轮廓仪（Mitutoyo SJ201）、X射线衍射仪（X'Pert-Pro）、光学显微镜（Leica DM RXA）、扫描电子显微镜（FEG JEOL JSM-7000F）、高精度HAIRL辐射计、积分球（Bruker A 562-G配Infragold涂层）、K型热电偶，材料包含高纯镍、抛光用氧化铝粉及氩气。

4：1）、X射线衍射仪（X'Pert-Pro）、光学显微镜（Leica DM RXA）、扫描电子显微镜（FEG JEOL JSM-7000F）、高精度HAIRL辐射计、积分球（Bruker A 562-G配Infragold涂层）、K型热电偶，材料包含高纯镍、抛光用氧化铝粉及氩气。 实验流程与操作步骤：

4. 实验流程与操作步骤：样品经抛光后在氩气中200至800°C范围内测量基线发射率，随后在730°C空气中等温氧化33天并动态监测发射率变化。氧化后对氧化镍层进行表征，并在低于其奈尔温度至850°C的氩气环境中测量氧化镍发射率，采集分析光谱与总法向发射率数据。

5：数据分析方法：

通过普朗克函数加权数值积分光谱发射率数据获得总法向发射率，估算不确定度并与文献数据对比。采用X射线衍射和显微技术进行材料表征。