研究目的
研究AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)在25°C至125°C温度范围内的电学特性与陷阱效应,并探究高温下电子辅助隧穿及陷阱逃逸等潜在机理。
研究成果
AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMTs)的电学性能随温度升高而退化,表现为转移曲线负向偏移、跨导降低以及栅极漏电流增大。脉冲测量显示,在较高温度和偏置状态下偏移量更大,这归因于虚拟栅效应减弱以及电子从陷阱中逸出增强。通过低频噪声分析确定陷阱的激活能为0.521电子伏特。这些发现为改进高温应用中HEMT的设计和提高其可靠性提供了见解。
研究不足
该研究仅限于最高125°C的温度和特定偏置条件,未探究更高温度或其他应力因素。所用器件具有固定尺寸和钝化层,可能无法代表所有HEMT变体。低频噪声技术可能无法捕捉所有陷阱类型或深度。
1:实验设计与方法选择:
研究通过测量25°C至125°C温度范围内AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的直流与脉冲电流-电压(I-V)特性及低频噪声,分析其电学行为与陷阱效应,并采用阿伦尼乌斯方程等理论模型进行陷阱分析。
2:样品选择与数据来源:
实验样品为栅长0.1微米、栅宽0.84微米、表面覆盖80纳米SiNx钝化层的AlGaN/GaN HEMT器件。
3:1微米、栅宽84微米、表面覆盖80纳米SiNx钝化层的AlGaN/GaN HEMT器件。
实验设备与材料清单:
3. 实验设备与材料清单:半导体参数分析仪(安捷伦B1500A)、SR785动态信号分析仪、滤波放大器(普洛斯9812B)、温控箱(GWS)。
4:实验流程与操作步骤:
通过改变栅源电压(VGS)和漏源电压(VDS)测量直流特性;在偏置状态(0V,0V)、(-8V,0V)和(-8V,10V)下进行脉宽1毫秒、周期50毫秒的脉冲I-V测试;开展低频噪声测量并通过功率谱密度与阿伦尼乌斯曲线分析数据。
5:数据分析方法:
利用阿伦尼乌斯方程从噪声谱提取激活能等参数,量化转移曲线与跨导的偏移量。
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