1：实验设计与方法选择：

采用非平衡磁控溅射系统，以金属钒靶和O2反应气体沉积氧化钒薄膜，随后在不同温度下进行热退火以研究其性能。

2：样品选择与数据来源：

使用Eagle玻璃基板（25×25×1 mm），依次用甲醇、丙酮和去离子水超声清洗，氮气吹干。

3：实验设备与材料清单：

非平衡磁控溅射系统、金属钒靶（3英寸，纯度99.9%，LTS公司）、Eagle玻璃基板、Ar和O2气体、N2环境退火炉、FESEM（XL-40aFEG，10 kV）用于厚度测量、AFM（NITECH SPM 400，接触模式Si-DF40探针）用于表面形貌分析、XRD（D8 Advance，布鲁克公司，Cu Kα辐射，λ=1.5418 ?）用于晶体结构分析、紫外-可见-近红外分光光度计（UV-3600，岛津）配合自制样品加热台用于透射率和热致变色测量。

4：9%，LTS公司）、Eagle玻璃基板、Ar和O2气体、N2环境退火炉、FESEM（XL-40aFEG，10 kV）用于厚度测量、AFM（NITECH SPM 400，接触模式Si-DF40探针）用于表面形貌分析、XRD（D8 Advance，布鲁克公司，Cu Kα辐射，λ=5418 ?）用于晶体结构分析、紫外-可见-近红外分光光度计（UV-3600，岛津）配合自制样品加热台用于透射率和热致变色测量。 实验流程与操作步骤：

4. 实验流程与操作步骤：清洗后的基板置于距靶材60 mm处。本底真空1.1 mPa，工作压强0.4 Pa（Ar/O2混合气体100/20 sccm），室温下靶材功率密度5 W/cm2。沉积约120 nm厚薄膜后，在N2环境中300°C至500°C退火2小时，退火后测量性能。

5：1 mPa，工作压强4 Pa（Ar/O2混合气体100/20 sccm），室温下靶材功率密度5 W/cm2。沉积约120 nm厚薄膜后，在N2环境中300°C至500°C退火2小时，退火后测量性能。 数据分析方法：

5. 数据分析方法：通过XRD图谱进行结构分析，AFM和FESEM图像分析表面形貌，透射光谱分析光学性能，方阻、电阻率、载流子浓度和迁移率测量分析电学性能。