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[2018年IEEE日本CPMT研讨会(ICSJ) - 日本京都 (2018.11.19-2018.11.21)] 2018年IEEE日本CPMT研讨会(ICSJ) - 刚玉结构p型氧化铱薄膜研究及氧化铱/氧化镓异质结能带排列

DOI：10.1109/ICSJ.2018.8602906 出版年份：2018 更新时间：2025-09-23 15:22:29
摘要： 具有p型导电性的刚玉结构氧化铱，是形成高质量氧化镓pn异质结的有力候选材料。我们成功在蓝宝石衬底上制备了刚玉结构氧化铱薄膜。光学透过率测量显示该氧化铱的光学带隙约为3.0电子伏特。此外，通过X射线光电子能谱研究了氧化铱/氧化镓界面的能带排列，发现其呈现价带偏移3.3电子伏特、导带偏移1.0电子伏特的交错能隙（II型）结构。
作者： Shin-ichi Kan，Shu Takemoto，Kentaro Kaneko，Takashi Shinohe，Shizuo Fujita
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研究概述 实验方案 设备清单

研究目的

研究刚玉结构的p型氧化铱薄膜及其与氧化镓的能带排列特性，以探索其在电子器件高质量异质结中的潜在应用。

研究成果

成功制备了带隙为3.0电子伏特的P型α-Ir2O3薄膜。α-Ir2O3/α-Ga2O3界面的能带排列为II型，价带和导带偏移量分别为3.3电子伏特和1.0电子伏特，这有利于设计异质结二极管等电子器件。

研究不足

使用某些前驱体时，α-Ir2O3的生长速率最初较低，但使用氯化铱后有所改善。该研究聚焦于薄膜和异质结，但在规?；蚣傻酵暾骷矫婵赡艽嬖诰窒扌?。需要进一步优化生长条件和电学性能。

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