1：实验设计与方法选择：

本研究采用毛细桥退润湿法制备掺杂分子马达的定向类金刚石碳微带阵列。该方法因其能精确控制形成与退润湿过程，从而获得高度有序的微结构而被选用。理论模型涉及分子运动对电子轨道重叠及载流子传输的影响。

2：样品选择与数据来源：

样品以三苯乙烯衍生物HAT8作为类金刚石碳材料，手性拥挤烯烃M1作为分子马达进行制备。将不同重量比（2.5至15 wt%）的M1掺杂入HAT8，溶解于浓度约20 mg mL?1的氯苯溶液中。

3：5至15 wt%）的M1掺杂入HAT8，溶解于浓度约20 mg mL?1的氯苯溶液中。 实验设备与材料清单：

3. 实验设备与材料清单：设备包括带结构化柱的硅晶圆、带SiO2层的平整硅基底、氧等离子体仪器(DT-03)、紫外-可见-近红外分光光度计(Lambda 950, Perkin Elmer)、场发射扫描电子显微镜(Hitachi S-4800)、配备CCD相机和Linkam温控台的偏光显微镜(Carl Zeiss Axio Vision SE64)、二维广角X射线衍射仪(Bruker Discover)、Keithley 4200 SCS半导体参数分析仪及Suss PM5分析探针台。材料包含HAT8、M1、氯苯及FAS改性硅模板。

4：3)、紫外-可见-近红外分光光度计(Lambda 950, Perkin Elmer)、场发射扫描电子显微镜(Hitachi S-4800)、配备CCD相机和Linkam温控台的偏光显微镜(Carl Zeiss Axio Vision SE64)、二维广角X射线衍射仪(Bruker Discover)、Keithley 4200 SCS半导体参数分析仪及Suss PM5分析探针台。材料包含HATM氯苯及FAS改性硅模板。 实验流程与操作步骤：

4. 实验流程与操作步骤：将溶液夹在结构化硅晶圆与平整基底之间，加热至60°C使溶剂蒸发，引发退润湿并形成微带。通过压印在样品上的金电极，在365 nm LED灯不同强度的紫外照射下测量电学性能。热处理包括加热至72°C并以0.1°C min?1速率冷却以实现恢复。

5：1°C min?1速率冷却以实现恢复。 数据分析方法：

5. 数据分析方法：采用J-V曲线、循环伏安法、恒流充电曲线及POM/SEM/XRD进行形貌与取向表征分析。统计分析包含重复性测试及紫外强度、掺杂浓度与电流密度的相关性研究。