研究目的
研究结构变异（特别是邻碳硼烷上连接的芳基平面性）对光物理性质及分子内电荷转移（ICT）跃迁导致的辐射衰变效率的影响。
研究成果
与邻碳硼烷相连的芳基平面性会显著影响ICT跃迁导致的辐射衰减效率。具有平面芳基的化合物（如CB2）呈现强烈发射，而非平面芳基（如CB1）则显示微弱或无发射。硼化作用可增强发射性能，理论计算证实结构稳定性对光物理行为具有重要作用。
研究不足
本研究仅限于基于吡啶衍生物的特定o-碳硼烷化合物；推广至其他体系可能需要进一步研究。实验条件（如溶剂、温度）可能影响结果，且理论模型采用某些近似假设可能导致误差。
1：实验设计与方法选择：
本研究基于2-苯基吡啶和2-(苯并[b]噻吩-2-基)吡啶合成了四种o-碳硼烷化合物（CB1、CB2、CB1B、CB2B），并在C4位引入o-碳硼烷。采用的方法包括Sonogashira偶联反应、Suzuki-Miyaura偶联反应、硼化反应及光物理测量，通过DFT和TD-DFT理论计算分析电子跃迁。
2：CBCB1B、CB2B），并在C4位引入o-碳硼烷。采用的方法包括Sonogashira偶联反应、Suzuki-Miyaura偶联反应、硼化反应及光物理测量，通过DFT和TD-DFT理论计算分析电子跃迁。 样本选择与数据来源：
2. 样本选择与数据来源：化合物由市售试剂合成。培养CB2和CB2B单晶用于X射线衍射分析，在脱气甲苯溶液和PMMA薄膜中测定紫外-可见吸收光谱（UV-vis）和光致发光光谱（PL）。
3：实验设备与材料清单：
仪器包括布鲁克Avance 400核磁共振波谱仪、Jasco V-530紫外-可见分光光度计、Horiba FluoroMax-4P荧光光谱仪、爱丁堡FLS920寿命测量仪及布鲁克D8 QUEST CCD X射线衍射仪。材料包含癸硼烷、硼酸等化学品，以及甲苯、四氢呋喃等溶剂和PMMA。
4：实验步骤与操作流程：
合成过程包括多步反应：Sonogashira反应制备中间体3，Suzuki-Miyaura偶联生成1a和2a，癸硼烷形成碳笼结构得到CB1和CB2，BBr3硼化及AlMe3甲基化制备CB1B和CB2B。在298K和77K溶液及298K PMMA薄膜中进行光物理测量，开展X射线晶体学及DFT/B3LYP/6-31G(d)理论计算。
5：数据分析方法：
通过核磁共振谱确认结构，利用紫外-可见吸收和光致发光数据测定吸收/发射波长、量子产率及衰减常数，理论计算解析电子跃迁和轨道贡献。
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