研究目的
确定单层和多层结构中硅纳米晶体(Si NCs)的吸收截面(ACS),这些结构具有可变的氧化层厚度和温度,并分析其对这些参数的依赖性。
研究成果
硅纳米晶体的ACS随势垒厚度增加和温度降低而减小。约1.6纳米的最优势垒厚度可使PL强度产率达到最大值。这种变化归因于缺陷态的改变、纳米晶层间能量转移效率的变化,以及低温下的声子占据和带隙展宽。ACS并非独立于实验条件,这凸显了光电器件应用中精确控制参数的必要性。
研究不足
该模型假设为准二能级系统,并因俄歇复合效应而忽略更高激发态。其仅在低激发条件下成立,以避免双激发的影响。俄歇寿命不易确定且变化范围较大。拟合模型可能无法完美捕捉复杂的衰减动力学,且在极低激发功率下ACS的测定存在噪声。70K以下的温度效应主要由辐射过程主导,而低温下向对数正态依赖关系的转变尚需验证。
1:实验设计与方法选择:
本研究采用基于调制泵浦下激发强度依赖性光致发光(PL)动力学分析的光致发光调制技术。使用准二能级系统模型描述硅纳米晶体的光学动力学,包含基态、单激发态和双激发态的微分方程。通过该模型推导的方程确定激活载流子浓度(ACS)。
2:样品选择与数据来源:
在熔融石英衬底上通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制备了具有不同SiO2势垒厚度(1、1.6、2.2、2.8 nm)的多层(ML)样品及单层(SL)样品,随后进行退火和钝化处理。对样品进行了结构和光学表征。
3:8 nm)的多层(ML)样品及单层(SL)样品,随后进行退火和钝化处理。对样品进行了结构和光学表征。 实验设备与材料清单:
3. 实验设备与材料清单:设备包括405 nm二极管激光器、用于调制的石英声光调制器、定制的倒置显微镜微光谱系统、成像光谱仪、相机、光电倍增管、多通道计数卡(Becker-Hickl,MSA-300)以及低温恒温器(Janis ST-500)。材料包括富硅氧氮化物(SRON)、SiO2、熔融石英衬底、高纯度N2和H2气体。
4:熔融石英衬底、高纯度N2和H2气体。 实验流程与操作步骤:
4. 实验流程与操作步骤:PL实验在调制激光激发下进行,功率变化跨越四个数量级,温度范围为8 K至室温。在特定波长(如830 nm)检测时间分辨PL信号,并使用单指数和拉伸指数模型拟合数据以提取平均寿命。
5:数据分析方法:
数据分析包括拟合PL衰减曲线以提取开启态寿命和PL寿命,利用推导公式σ = γON - γPL(其中γ为寿命倒数与光子通量斜率)计算ACS,并将依赖关系拟合为指数函数。统计方法和软件工具未明确说明但隐含使用。
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multichannel counting card
MSA-300
Becker-Hickl
Used for time-resolved PL detection by coupling the output of photomultipliers.
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cryostat
ST-500
Janis
Used for low-temperature experiments to place samples and control temperature.
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diode laser
Used for excitation in PL experiments at 405 nm wavelength.
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acousto-optic cell
Used to modulate the laser beam with an edge switching time of about 100 ns.
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micro-spectroscopy setup
Custom-made setup with inverted microscope for PL detection in epifluorescence configuration.
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imaging spectrometer
Part of the detection branches for spectral PL detection.
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camera
Used for spectral PL detection in the setup.
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photmultiplier
Used for time-resolved PL detection in the setup.
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