1：实验设计与方法选择：

采用脉冲激光沉积（PLD）技术，分别使用混合硼掺杂金刚石靶材（低沉积速率模式LDR）和双硼石墨靶材（高沉积速率模式HDR）。LDR与HDR分别选用紫外（266 nm）和红外（1064 nm）激光波长以实现不同沉积速率。衬底温度设定为500°C以激活化学相互作用同时抑制石墨化。

2：样品选择与数据来源：

薄膜沉积于硅和氯化钠衬底。通过背散射能谱（RBS）、扫描电镜（SEM）、透射电镜（TEM）、电子能量损失谱（EELS）、穆斯堡尔谱（MRS）、X射线光电子能谱（XPS）、纳米压痕及电学测量等技术分析成分与性能。

3：实验设备与材料清单：

设备包括Nd:YAG激光器（LQ529，白俄罗斯）、扫描电镜（Tescan LYRA 3）、透射电镜（Carl Zeiss Libra 120）、X射线光电子能谱仪（K-Alpha，赛默飞世尔）、纳米压痕仪（Hysitron UBI750）、低温恒温器（CryoFree404）及朗缪尔探针。材料包含混合硼掺杂金刚石靶材（B/D2.6与B/D1.5）、双硼石墨靶材、硅/氯化钠衬底及铟锡合金接触电极。

4：3）、透射电镜（Carl Zeiss Libra 120）、X射线光电子能谱仪（K-Alpha，赛默飞世尔）、纳米压痕仪（Hysitron UBI750）、低温恒温器（CryoFree404）及朗缪尔探针。材料包含混合硼掺杂金刚石靶材（B/D6与B/D5）、双硼石墨靶材、硅/氯化钠衬底及铟锡合金接触电极。 实验流程与操作步骤：

4. 实验流程与操作步骤：采用特定激光参数（如LDR能量密度7 J/cm2，HDR 10 J/cm2）进行靶材烧蚀。沉积时间分别为LDR 20-30分钟，HDR 4分钟。沉积后对薄膜形貌、结构、成分、力学及电学性能进行表征。

5：数据分析方法：

通过解卷积处理EELS与XPS光谱，采用强度比分析MRS数据，运用标准公式计算电学与力学性能，并对多次测量结果进行统计分析。