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近红外聚合物和光电晶体管

DOI:10.1039/C8TC03917H 期刊:Journal of Materials Chemistry C 出版年份:2018 更新时间:2025-09-23 19:24:30
摘要: 设计了一种新型双噻吩稠合二酮吡咯并吡咯单元(4,11-双(2-辛基十二烷基)-7H,14H-噻吩并[30,20:7,8]中氮茚并[2,1-a]噻吩并[3,2-g]中氮茚-7,14-二酮,BTI),并将其与作为电子给体的噻吩和双噻吩通过Stille偶联共聚,分别构建了两种D-A共轭聚合物P1和P2。这两种聚合物表现出优异的热稳定性、宽光吸收范围和窄能带隙。利用P1和P2制备了有机场效应晶体管(OFETs)以评估其电荷传输特性,其中P2显示出更优异的空穴传输性能,迁移率达0.1 cm2 V?1 s?1?;共捎谜饬街志酆衔镉隤C71BM混合的活性层制备了近红外(NIR)光电晶体管,在850 nm波长、35 mW cm?2光照条件下,基于P1/PC71BM的光电晶体管光电流/暗电流比(P)为3.6×10?,光电响应度(R)为270 A W?1;而基于P2/PC71BM的器件P值为2.5×10?,R值高达2420 A W?1。
作者: Lanchao Ma,Xiaowei Zhan,Bing Chen,Yunlong Guo,Yunqi Liu,Xingguo Chen,Yongri Liang,Dongmei Zeng
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研究概述 实验方案 设备清单

设计和合成新型双噻吩并二吡咯并吡咯基共轭聚合物,用于近红外光电晶体管,并评估其电荷传输和光响应性能。

基于BTI的新型聚合物P1和P2展现出优异的热稳定性、宽近红外吸收及窄带隙特性。与P1相比,P2具有更优越的空穴迁移率和光响应性能,最佳混合比例可进一步提升光电晶体管性能。该研究表明这些材料在近红外光电子应用中具有潜力,并为未来分子设计与器件优化研究指明了方向。

P1和P2的迁移率低于部分DPP基材料,且热退火后性能下降,限制了其在高性能器件中的应用。该研究仅针对特定聚合物结构与混合比例,若要实现更广泛的适用性可能还需进一步优化。

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