1：实验设计与方法选择：

研究采用室温直流反应磁控溅射法制备IAI多层薄膜，随后沉积NiOx和WO3电致变色层。使用聚合物凝胶电解质组装五层ECD结构（玻璃/IAI/NiOx/LiClO4-PC-PMMA/WO3/IAI/玻璃），方法学包括光学、电学及电化学特性表征。

2：样品选择与数据来源：

采用玻璃基底，经乙醇和去离子水超声清洗。样品包含IAI薄膜、NiOx/IAI、WO3/IAI及完整ECD。

3：实验设备与材料清单：

设备包括直流磁控溅射系统、超声清洗机、真空腔室、质量流量控制器、X射线衍射仪（布鲁克-AXS D8-Advance）、扫描电镜（JEOL JSM 7800F Prime、FEI Helios Nanolab600i）、原子力显微镜（Veeco Dimension 3100）、分光光度计（Bentham PVE 300）、四探针仪（Signatone）、电化学工作站（辰华仪器CHI 660E）、紫外-可见光谱仪（日立U-3010）。材料包含ITO靶材（10%SnO2+90%In2O3）、银靶（99.99%纯度）、镍靶、钨靶、碳酸丙烯酯（PC）、高氯酸锂（LiClO4）、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）。

4：0）、分光光度计（Bentham PVE 300）、四探针仪（Signatone）、电化学工作站（辰华仪器CHI 660E）、紫外-可见光谱仪（日立U-3010）。材料包含ITO靶材（10%SnO2+90%In2O3）、银靶（99%纯度）、镍靶、钨靶、碳酸丙烯酯（PC）、高氯酸锂（LiClO4）、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）。 实验流程与操作步骤：

4. 实验流程与操作步骤：基底经清洗后置于真空腔室。依次沉积IAI薄膜：底层ITO（50nm）、银层（5nm）、顶层ITO（30nm）。在IAI薄膜上沉积NiOx和WO3。制备聚合物凝胶电解质并在80°C、0.1MPa真空高压釜中组装ECD。表征手段包括掠入射XRD、XRR、SEM、AFM、光学透过率/反射率、电阻率、循环伏安、接触角及原位光学测量。

5：1MPa真空高压釜中组装ECD。表征手段包括掠入射XRD、XRR、SEM、AFM、光学透过率/反射率、电阻率、循环伏安、接触角及原位光学测量。 数据分析方法：

5. 数据分析方法：使用布鲁克-EVA软件、JC-PDF数据库、FullProf-Suite、布鲁克-LEPTOS软件、SCOUT光学建模软件及标准电化学公式计算电荷密度与扩散系数。