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IPEX- 844 激光器??楹拖低? class=

IPEX- 844

分类: 激光器??楹拖低?/a>

厂家: LightMachinery

产地: 加拿大

型号: IPEX- 844

更新时间: 2023-02-07T07:08:56.000Z

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Industrial Excimer Lasers

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概述

来自Light Machinery的IPEX-844是一种波长为193 nm、351 nm、功率为6至20 W、输出功率(脉冲)为6至20 W、脉冲能量为150至400 MJ、稳定脉冲能量(MJ)为230至700 MJ、工作温度为5至20摄氏度的激光器。IPEX-844的更多细节可参见下文。

参数

  • 技术 / Technology : Excimer Laser
  • 功率 / Power : 6 to 20 W
  • 应用 / Application : 24/ 7 Pulsed Laser Deposition, Precision Manufacturing, Material Processing, Drilling, Wire Stripping, Scientific Research, LIDAR, Laser Induced Breakdown Spectroscopy

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  • 通过脉冲激光沉积法合成重费米子CeCoIn5薄膜
    金属薄膜 CeCoIn5薄膜 重费米子 超导性 脉冲激光沉积

    通过脉冲激光沉积(PLD)技术在Al2O3(0001)衬底上生长了CeCoIn5(Co115)薄膜。这些薄膜主要沿c轴生长,包含CeIn3和含铟合金相。岩盐型晶粒成核形成,其中混有过量铟的Co115晶粒均匀分布于衬底表面。该薄膜电阻率在47 K附近呈现近藤相干峰,并在1.8 K呈现零电阻超导态——这是PLD生长Co115薄膜中的首次观测。薄膜的Rietveld精修显示其c/a比(四方度)从单晶的1.6374被抑制至1.6312,这与超导转变温度和四方度的线性关系相符。这种良好一致性表明PLD技术可为调控临界自旋涨落的二维特性提供新途径,从而有助于理解Co115的超导配对机制。

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  • 物理学实验方案

    1. 实验设计与方法选择:本研究采用脉冲激光沉积(PLD)技术在Al2O3(0001)衬底上生长CeCoIn5薄膜。通过X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和能量色散X射线光谱(EDX)对薄膜进行表征。采用标准四探针法测量电阻率。 2. 样品选择与数据来源:使用化学计量比的纯元素金属通过电弧熔炼法制备多晶Co115靶材。 3. 实验设备与材料清单:采用LightMachinery IPEX-864准分子激光器进行烧蚀,衬底加热使用卤素灯加热器。 4. 实验流程与操作步骤:沉积温度为600°C,以10Hz重复频率共发射36,000次激光脉冲。 5. 数据分析方法:使用FullProf程序对XRD数据进行精修,在最高9T磁场下测量电阻率。

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厂家介绍

LightMachinery的创始人几乎在整个职业生涯中都在一起工作。LightMachinery的许多人都是从安大略省坎纳塔的Lumonics开始设计和制造高功率二氧化碳和准分子激光系统的。我们团队的另一组成员来自一家名为Interoptics的公司,该公司由LightMachinery的创始人之一Jeff Wimperis创建。Interoptics后来被Lumonics收购,并更名为WavePrecision.

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图片 名称 分类 制造商 参数 描述
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    PD480C-AC是一款光电探测器,专为光电应用设计,具有高灵敏度和稳定性。

  • UC160-190 激光器??楹拖低? class= UC160-190 冷却器 Solid State Cooling Systems

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