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DMLP567R 光学反射镜

DMLP567R

分类： 光学反射镜

厂家： 索雷博

产地： 美国

型号： DMLP567R

更新时间： 2024-06-05T09:46:49.000Z

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简介：

25 mm x 36 mm Longpass Dichroic Mirror, 567 nm Cutoff

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概述

Thorlabs Inc生产的DMLP567R是一款光学反射镜，波长范围为584至700 nm，反射镜厚度为1.0 mm（0.04英寸）。有关DMLP567R的更多详细信息，请联系我们。

参数

  • 反射镜类型 / Mirror Type : Longpass Mirror, Dichroic Mirror
  • 反射镜形状 / Mirror Shape : Rectangular
  • 基底/材料 / Substrate/Material : UV Fused Silica
  • 反射镜厚度 / Mirror Thickness : 1.0 mm (0.04 Inch)
  • 表面质量 / Surface Quality : 40-20 scratch-dig

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  • 样品温度对钼钨合金激光诱导击穿光谱的影响
    激光诱导击穿光谱 等离子体发射 钼钨合金 样品温度 激光诱导击穿光谱

    评估了激光诱导击穿光谱（LIBS）在高温条件下对核材料进行原位元素分析的分析能力。选用经认证的钼钨合金（钼70 wt.%和钨30 wt.%）作为托卡马克装置中面向等离子体部件（PFCs）沉积高Z杂质的替代材料。采用纳秒红外（1064 nm）激光脉冲研究了样品温度（Ts）对激光诱导钼钨等离子体光学发射的影响。LIBS实验在20至410℃的宽温度范围内进行。针对不同温度条件下的烧蚀坑进行了表面形貌和深度剖析。研究发现信号发射强度与Ts存在显著相关性，Ts升高会导致谱线发射增强。在激光烧蚀过程中，烧蚀速率、等离子体温度和电子密度随Ts显著增加。此外，合金表面一旦发生氧化，其反射率会急剧下降。表面反射率的降低使更多激光能量耦合到靶材，从而产生更强的LIBS信号。这些结果将有助于提升托卡马克装置中高Z杂质的LIBS定量分析水平。

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  • 精密仪器实验方案

    1. 实验设计与方法选择：采用调Q Nd:YAG激光器作为烧蚀源，在钼钨合金样品上产生等离子体，并对等离子体的光谱发射进行检测与分析。 2. 样品选择与数据来源：使用经认证的钼钨合金（Mo 70 wt.%和W 30 wt.%）作为样品，将其加热至20至410℃的不同温度。 3. 实验设备与材料清单：Nd:YAG激光器（Lapa-80，Beamtech）、二向色镜（DMSP950，Thorlabs；DMLP 567，Thorlabs）、激光功率计（842-PE，Newport）、配备ICCD的阶梯光栅光谱仪（iStar DH334T，Andor）、扫描电子显微镜（Quanta 450，FEI）、白光干涉仪（New View 6 K，Zygo Corporation）。 4. 实验步骤与操作流程：将激光聚焦于样品表面，采集发射光谱，改变样品温度并研究其对等离子体发射的影响。 5. 数据分析方法：通过分析谱线强度确定等离子体温度和电子密度，利用扫描电子显微镜和白光干涉仪观察表面形貌及坑洞轮廓。

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厂家介绍

Thorlabs致力于以快速有效的服务，为客户供应高品质的光电产品及附属产品。索雷博, 光学平台, 光学元件, 位移台, 光纤跳线, 激光器, 二极管驱动, 宽谱光源, 光电探测, 光束分析, OCT成像, 成像系统, 压电陶瓷, 光电实验室

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