研究目的
研究采用两种不同方法在(?2 0 1)取向β-Ga2O3单晶衬底上生长GaN基LED，以提高GaN外延层的晶体质量。
研究成果
该研究成功展示了在(?2 0 1) β-Ga2O3衬底上制备GaN基LED的两种方法，连续生长显示出晶体质量的提升。这些LED呈现出量子限制效应和屏蔽效应，尽管表面存在缺陷仍能成功运行。
研究不足
(?2 0 1)晶向β-Ga2O3衬底较差的热导率和单斜晶结构导致LED结构表面出现裂纹和凹坑，可能影响器件性能。
在大气压金属有机化学气相沉积中，通过低温非掺杂GaN与高温非掺杂GaN之间的非连续/连续生长，在(?2 0 1)β-Ga?O?衬底上制备GaN基LED
DOI：10.7567/1347-4065/ab3ff5
期刊：Japanese Journal of Applied Physics
出版年份：2019
更新时间：2025-09-11 14:15:04
摘要：
本研究展示了两种在大气压金属有机化学气相沉积条件下，于(?2 0 1)取向β-Ga?O?单晶衬底上生长氮化镓基发光二极管的方法：一种方法诱导低温非掺杂氮化镓(u-GaN)与高温u-GaN之间形成非连续生长，另一种则实现连续生长。我们观测到X射线衍射摇摆曲线半高宽的以下降低：(?2 0 1)β-Ga?O?衬底上GaN(0 0 2)面（从464降至342角秒）和GaN(1 0 2)面（从886降至493角秒）。成功在(?2 0 1)β-Ga?O?单晶衬底上制备了含六对InGaN/GaN多量子阱的发光二极管。
作者：
Yu-Pin Lan，Yen-Chun Chen，Yi-Yun Yeh，Shun-Ming Hung
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