研究目的
开发一种简单高效的方法来合成发光形式的硅——多孔硅,并使其与传统硅技术兼容,用于微LED显示器。
研究成果
在极低电流密度和氟离子浓度条件下,可以可重复地制备出高度均匀且超薄的高孔隙率纳米多孔硅薄膜,适用于微LED显示器。
研究不足
电化学蚀刻过程中采用高电流密度和高浓度氢氟酸会导致加工时间缩短,但需使用有毒且具有侵蚀性的试剂。
研究目的
开发一种简单高效的方法来合成发光形式的硅——多孔硅,并使其与传统硅技术兼容,用于微LED显示器。
研究成果
在极低电流密度和氟离子浓度条件下,可以可重复地制备出高度均匀且超薄的高孔隙率纳米多孔硅薄膜,适用于微LED显示器。
研究不足
电化学蚀刻过程中采用高电流密度和高浓度氢氟酸会导致加工时间缩短,但需使用有毒且具有侵蚀性的试剂。
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