研究目的
研究在TaOx活性层与Ta顶电极之间插入WOx层对器件电阻切换行为的影响及其在模拟生物突触以实现神经形态计算中的应用。
研究成果
在TaOx活性层与Ta顶电极之间插入WOx氧化还原层,成功将阻变行为从突变式转变为渐变式,从而实现模拟开关并模拟关键的突触功能。这一改进归因于氧化还原诱导的陷阱控制空间电荷限制传导机制,为神经形态计算应用提供了一种有前景的方法。
研究不足
该研究受限于电阻切换操作前需进行电铸工艺,且研究对象为特定材料体系(WOx/TaOx)。该器件的保持特性虽能满足突触运算需求,但非易失性存储器应用仍需改进。
1:实验设计与方法选择:
本研究通过制备Ta/TaOx/Pt和Ta/WOx/TaOx/Pt器件来比较其阻变行为。方法包括采用反应射频溅射沉积氧化物层,以及直流溅射制备顶电极。
2:样品选择与数据来源:
样品制备于带有SiO2层的硅衬底上,采用Pt/Ti作为底电极。薄膜厚度通过透射电镜截面成像确认。
3:实验设备与材料清单:
设备包括用于薄膜沉积的射频与直流溅射系统,以及用于电学表征的Agilent 4156C和B1530A。材料包括Ta、WOx、TaOx、Pt和Ti。
4:实验流程与操作步骤:
过程包括沉积底电极、阻变层(TaOx或WOx/TaOx)和顶电极(Ta),随后通过直流扫描和交流脉冲测量进行电学表征。
5:数据分析方法:
通过分析I-V特性理解阻变机制,重点研究陷阱控制的空间电荷限制传导。
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