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后发射极GaAs<sub>0.75</sub>P<sub>0.25</sub>顶电池在III-V/Si叠层光伏应用中的研究

DOI:10.1109/JPHOTOV.2019.2939069 期刊:IEEE Journal of Photovoltaics 出版年份:2019 更新时间:2025-09-12 10:27:22
摘要: 研究人员探究了一种背发射极(背结)n-on-p+器件设计,将其作为传统前发射极(前结)n+-on-p设计的替代方案,应用于变性单片III-V/Si叠层太阳能电池中,以期获得更强的抗位错诱导性能退化能力。通过对比MOCVD生长的背发射极与前发射极1.7电子伏特带隙GaAs0.75P0.25顶电池同质结构,发现背发射极设计在开路电压方面具有30毫伏优势。研究表明该开路电压提升几乎同等源于结区复合电流降低以及准中性区输运改善带来的反向饱和电流减小。这些结果表明,对于包括III-V/Si叠层在内的变性电池而言,背发射极设计可能是极具前景的应用方向——这类电池往往因高位错密度而难以实现最大电压输出。但需进一步优化短路电流收集效率,以克服可能限制此类结构效能的非理想收集概率分布问题。
作者: Daniel L. Lepkowski,Jacob T. Boyer,Steven A. Ringel,Daniel J. Chmielewski,Tyler J. Grassman,Amber C. Silvaggio
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研究概述 实验方案 设备清单

研究一种背发射极(背结)n-on-p+器件设计,用于应变补偿单片III-V/Si叠层太阳能电池,作为传统前发射极(前结)n+-on-p设计的替代方案,以期获得更强的抗穿透位错性能退化能力。

后发射极设计确实可能是应用于包括III-V/Si叠层在内的异质结电池的一条有前景的途径,在这些电池中,实现最大电压输出常常受到高位错密度的阻碍。然而,还需要进一步优化短路电流收集。

需要进一步优化短路电流收集,以克服可能限制此类结构效能的次优收集概率分布。

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