研究目的
研究单飞秒中红外激光脉冲对硅的高强度超快改性,并理解损伤和烧蚀阈值波长依赖性背后的机制。
研究成果
在硅材料上进行的单次飞秒激光诱导深度烧蚀(fs-LIDA)实验揭示了由表面LIDA多阶段作用形成的独特形貌特征。该研究为理解中红外波段的损伤机制提供了重要见解,重点阐明了从光子驱动到场驱动吸收机制的转变过程。结果表明传统模型可能无法完整描述这些波长下超快激光与固体相互作用的复杂特性。
研究不足
该研究仅限于单晶硅,未探讨对其他材料的影响。所用理论模型未能完全复现实验观测结果,表明需要进一步发展相关机制的理解。
1:实验设计与方法选择
研究对硅材料进行了单次飞秒激光诱导深度烧蚀(fs-LIDA)实验,随后通过横截面透射电镜(TEM)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和显微拉曼光谱分析,揭示了由表面LIDA多阶段作用形成的独特形貌特征。
2:样品选择与数据来源
所用样品为n型单晶硅,本征载流子浓度约10^14 cm^-3。激光源采用俄亥俄州立大学(OSU)极端中红外(EMIR)光学参量放大器(OPA)。
3:实验设备与材料清单
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
4:实验流程与操作步骤
在空气中进行1对1LID实验,使用p偏振脉冲(波长λ=2.75/3.15/3.75/4.15 μm,脉宽τ=200 fs),入射角31度。通过调节脉冲能量使峰值能量密度在0.25-2 J/cm^2范围内变化,每个脉冲能量均被记录。每波长下采集一次聚焦光斑的束斑轮廓,光斑尺寸范围为?20至25 μm FWHM(水平与垂直方向光斑尺寸的几何平均值)。
5:数据分析方法
采用SEM、AFM、TEM和显微拉曼光谱进行数据分析,Keldysh模拟通过Python代码实现,该代码使用了补充材料中描述的Keldysh方程。
独家科研数据包,助您复现前沿成果,加速创新突破
获取完整内容